浙江最成半导体科技有限公司大岩一彦获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江最成半导体科技有限公司申请的专利一种靶材喷砂防护装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223889767U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520404203.0，技术领域涉及：B24C9/00；该实用新型一种靶材喷砂防护装置是由大岩一彦;姚科科;凡春宝设计研发完成，并于2025-03-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种靶材喷砂防护装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种靶材喷砂防护装置，包括上护盖、侧护圈和下护板，溅射靶材可置于下护板上，下护板的顶面可与靶材背板面紧贴配合，侧护圈与靶材法兰面、背板侧面和下护板的边缘之间均为紧贴配合，侧护圈和下护板将背板侧面全部包裹，上护盖扣合在溅射靶材上，上护盖可与靶材溅射面和与靶材溅射面相邻的部分靶材侧面之间紧贴配合。本实用新型的防护装置可使得在喷砂过程中溅射靶材其他表面能够得到很好的遮蔽效果，并能够防止防护装置与溅射靶材表面发生压伤或者划伤的现象。
本实用新型一种靶材喷砂防护装置在权利要求书中公布了：1.一种靶材喷砂防护装置，包括上护盖1、侧护圈2和下护板3，其特征在于，溅射靶材4可置于所述下护板3上，所述下护板3的顶面可与靶材背板面41紧贴配合，所述侧护圈2与靶材法兰面42、背板侧面43和所述下护板3的边缘之间均为紧贴配合，所述侧护圈2和所述下护板3将所述背板侧面43全部包裹，所述上护盖1扣合在所述溅射靶材4上，所述上护盖1可与靶材溅射面44和与所述靶材溅射面44相邻的部分靶材侧面45之间紧贴配合。
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