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龙图腾网获悉四川上特科技有限公司申请的专利一种负性光刻胶涂布工艺用中间处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121198564B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511755892.0，技术领域涉及：B05D3/04；该发明授权一种负性光刻胶涂布工艺用中间处理设备是由冯艾诚;冯永;张正;胡仲波;李健儿设计研发完成，并于2025-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种负性光刻胶涂布工艺用中间处理设备在说明书摘要公布了：本发明公开一种负性光刻胶涂布工艺用中间处理设备，涉及芯片生产用光刻胶涂布相关辅助设备技术领域，包括第一固化隧道、第二固化隧道、一对检测组件、一对平移组件、翻转组件。第一固化隧道上设有多个硅片进出组件。第二固化隧道平行设于第一固化隧道一侧。检测组件用于测量硅片上的光刻胶厚度。平移组件用于在第一固化隧道和第二固化隧道之间移动硅片。翻转组件用于将硅片从第二传送带输送机的输送末端转移到第一传送带输送机的输送起始端并且同时对硅片进行翻面。本发明可以对较多数量的完成正面光刻胶涂布的硅片在固化的同时进行厚度检测，并在两个固化隧道之间进行平移或翻转，及时地将可以进行背面光刻胶涂布的硅片送回光刻胶涂布机。

本发明授权一种负性光刻胶涂布工艺用中间处理设备在权利要求书中公布了：1.一种负性光刻胶涂布工艺用中间处理设备，其特征在于，设于阵列布置的多台光刻胶涂布机7的一侧，包括： 第一固化隧道1，其上端设有多个向其内部吹入热风的热风机3，第一固化隧道1内部设有第一传送带输送机11，其两端分别向第一固化隧道1的入口和出口外侧延伸，第一固化隧道1朝向光刻胶涂布机7的侧面开设有多个用于硅片进出第一固化隧道1的侧口12，第一固化隧道1上还设有多个用于在第一固化隧道1和光刻胶涂布机7之间转移硅片的硅片进出组件； 第二固化隧道2，平行设于第一固化隧道1背向光刻胶涂布机7的一侧，第二固化隧道2上端也设有多个热风机3，第二固化隧道2内部设有在工作时输送方向与第一传送带输送机11相反的第二传送带输送机21，其两端分别向第二固化隧道2的入口和出口外侧延伸预定距离； 一对检测组件4，分别设于第一固化隧道1和第二固化隧道2的出口端，检测组件4包括干涉测厚传感器43，用于测量硅片上的光刻胶厚度； 一对平移组件5，分别设于第一固化隧道1两端，用于在第一固化隧道1和第二固化隧道2之间移动硅片； 翻转组件6，设于第一固化隧道1和第二固化隧道2之间，用于将硅片从第二传送带输送机21的输送末端转移到第一传送带输送机11的输送起始端并且同时对硅片进行翻面。

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