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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利基于声发射的法兰密封件在槽状态无损检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121090688B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511639784.7，技术领域涉及：G01N29/14；该发明授权基于声发射的法兰密封件在槽状态无损检测方法是由赵秀栩;何帆设计研发完成，并于2025-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于声发射的法兰密封件在槽状态无损检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于声发射的法兰密封件在槽状态无损检测方法，包括以下步骤：将AE传感器和激励装置分别对应布置于法兰密封结构的两侧，AE传感器和激励装置连接于数据处理终端设备上；激励装置启动，作用于法兰密封结构上产生激励振动，通过AE传感器采集源自激励装置产生的AE信号，传递至数据处理终端；根据AE信号分析判断法兰密封件在槽状态。本发明能在法兰安装过程对密封件在槽状态在不拆盖的条件下进行检测，可保留法兰密封系统的结构完整性，通过智能算法提高检测精度，避免拆装过程给密封件带来再次损伤的风险。

本发明授权基于声发射的法兰密封件在槽状态无损检测方法在权利要求书中公布了：1.一种基于声发射的法兰密封件在槽状态无损检测方法，其特征在于：包括以下步骤： 步骤1，将AE传感器和激励装置分别对应布置于法兰密封结构的两侧，AE传感器和激励装置连接于数据处理终端设备上； 步骤2，激励装置启动，作用于法兰密封结构上产生激励振动，AE传感器采集源自激励装置产生激励的AE信号，传递至数据处理终端设备； 步骤3，数据处理终端设备根据AE信号分析判断法兰密封件的在槽状态； 在所述的步骤3中，根据AE信号分析判断法兰密封件在槽状态的具体过程为： 步骤3.1，对所采集的AE信号进行数据处理，提取其中的信号特征值，从中找出能够有效反应不同状态的关键特征； 步骤3.2，根据提取的信号特征值，判断对应的法兰密封结构的密封件在槽状态处于何种状态的结果； 法兰密封结构的密封件在槽状态处于何种状态包括“正常在槽”“局部粘接”“局部缺陷”不同类型法兰密封圈在槽状态； 在步骤3.2中，根据信号特征值计算出信号的能量衰减平均值、累计振铃计数平均值和幅度衰减平均值，再根据信号的能量衰减平均值、累计振铃计数平均值和幅度衰减平均值，判断对应的法兰密封结构的密封件在槽状态处于何种状态； 在所述的步骤3.2中，判断对应的法兰密封结构的密封件在槽状态处于何种状态的具体过程为：当能量衰减率平均值小于设定值A，幅度衰减率平均值小于设定值B1，累计振铃计数平均值大于设定值C1并小于设定值C2时，密封结构处于正常在槽； 当能量衰减率平均值大于设定值A，幅度衰减率平均值大于设定值B2，累计振铃计数平均值大于设定值C2时，密封结构处于局部缺陷； 当能量衰减率平均值大于设定值A，幅度衰减率平均值大于设定值B1并小于设定值B2，累计振铃计数平均值小于设定值C1时，密封结构处于局部脱粘； 法兰密封结构包括依次布置的上法兰盖、密封层、下法兰盖；其中，密封层包括上法兰盖和下法兰盖之间设有的密封槽和设置于密封槽内的密封件。

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