上海微釜半导体设备有限公司赵燕平获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微釜半导体设备有限公司申请的专利立式反应设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120977923B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511497356.5，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权立式反应设备是由赵燕平;刘晓东;赵金龙设计研发完成，并于2025-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本立式反应设备在说明书摘要公布了：本公开提供一种立式反应设备。所述立式反应设备包括晶舟、热收集组件和热交换单元。所述晶舟于对应炉口的晶舟装卸区域可进出所述炉管地设置。所述热收集组件，邻设于所述炉口外，包括分别设置在所述晶舟装卸区域的相对两侧的热辐射反射件和聚焦透射件。所述热辐射反射件供将接收的热辐射能量反射至所述聚焦透射件。所述聚焦透射件被配置成将接收自所述晶舟装卸区域的热辐射能量聚焦并射出。所述热交换单元与所述聚焦透射件热交换配合，以吸收所述聚焦透射件射出的热辐射能量。聚焦透射件接收直射其表面和反射至其表面的热辐射能量，并被所述热交换单元吸收，以降低所述晶圆装卸仓的温度，避免晶圆装卸仓内部件因高温而降低寿命。
本发明授权立式反应设备在权利要求书中公布了：1.一种立式反应设备，其特征在于，包括底部具有炉口的炉管；所述炉口连通于一晶圆装卸仓；所述立式反应设备包括： 晶舟，于对应所述炉口的晶舟装卸区域可进出所述炉管地设置； 热收集组件，邻设于所述炉口外，包括分别设置在所述晶舟装卸区域的相对两侧的热辐射反射件和聚焦透射件；所述热辐射反射件将接收的热辐射能量反射至所述聚焦透射件；所述聚焦透射件被配置成将接收自所述晶舟装卸区域的热辐射能量聚焦并射出； 热交换单元，与所述聚焦透射件热交换配合，以吸收所述聚焦透射件射出的热辐射能量。
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