粤芯半导体技术股份有限公司石方毅获国家专利权
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龙图腾网获悉粤芯半导体技术股份有限公司申请的专利半导体器件和半导体器件版图的曲线型处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120895561B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511411029.3，技术领域涉及：H10W20/43；该发明授权半导体器件和半导体器件版图的曲线型处理方法是由石方毅;曾辉;刘志成;周卓弘;李月;姜晓晴;张淼华;李贵琦设计研发完成，并于2025-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体器件和半导体器件版图的曲线型处理方法在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了半导体器件和半导体器件版图的曲线型处理方法。该半导体器件，包括金属互连层；金属互连层的金属覆盖区域为由多个方向不同的边界线通过过渡线连接形成的封闭区域；相邻两条边界线之间的过渡线为根据两条边界线的相交关系确定的曲线，曲线的开口方向以及两条边界线的交点位于曲线的两侧。以形成金属互连层的相关线条的端点为处理对象，在相关线条换向的位置使用曲线进行过渡，实现对每个角度的全面覆盖调整，使得所有凹角位置的内切圆半径尽可能增加，每个凹角处应力分布集中效应减弱，避免形成裂纹，消除金属电迁移、连条或断条等现象，明显提升产品质量，延长芯片寿命。
本发明授权半导体器件和半导体器件版图的曲线型处理方法在权利要求书中公布了：1.半导体器件，其特征在于，包括金属互连层； 所述金属互连层的金属覆盖区域为由多个方向不同的边界线通过过渡线连接形成的封闭区域； 相邻两条边界线之间的过渡线为根据所述两条边界线的相交关系确定的曲线，所述曲线的开口方向以及所述两条边界线的交点位于所述曲线的两侧； 所述半导体器件的版图通过如下方式处理得到： 基于光学邻近效应修正工具对待处理版图的金属互连层进行线条端点提取，得到多个初始线条端点； 基于光学邻近效应修正工具，对所述初始线条端点中对应于台阶位置的端点进行滤除，得到多个待处理线条端点，所述待处理线条端点之间的线条形成的封闭区域为所述金属互连层的金属覆盖区域； 根据所述待处理线条端点添加曲线，得到目标版图，所述曲线连接两条线条，并与对应的两条线条相切。
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