上海光声制药有限公司刘艺雯获国家专利权
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龙图腾网获悉上海光声制药有限公司申请的专利卟啉衍生物、其制备方法及其用于抑菌的用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120865221B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511395903.9，技术领域涉及：C07D487/22；该发明授权卟啉衍生物、其制备方法及其用于抑菌的用途是由刘艺雯;赵涵;黄伟;刘亚谊;张绍良设计研发完成，并于2025-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本卟啉衍生物、其制备方法及其用于抑菌的用途在说明书摘要公布了：本发明涉及式I的化合物、其制备方法及其用于抑菌的用途，其中式I中的基团如说明书中所定义。本发明制备式I化合物的方法合成工艺简单、成本低廉，其通过使用特定的缩合催化剂与缩合剂的组合，可以得到良好的收率。并且，本发明提供的式I化合物对革兰氏阴性球菌、杆菌或球杆菌具有良好的靶向和抑菌能力，其在牙周炎、牙龈炎、牙菌斑和龋齿等口腔疾病中具有治疗作用。I。
本发明授权卟啉衍生物、其制备方法及其用于抑菌的用途在权利要求书中公布了：1.式I的化合物 I， 其中, X-为乙酸根离子， q为2，以使X-与阳离子电荷配平， R+为下式II II， “”波浪线表示连接至其余部分的连接点， p为0或1， K为下式II-a或II-b， II-a或II-b， R1为氢、C1-C4烷基、C3-C6环烷基或C3-C5杂芳基C1-C4亚烷基，所述C3-C5杂芳基C1-C4亚烷基包含一个或多个选自O和S的杂原子； R2为氢或C3-C5杂芳基，所述C3-C5杂芳基包含一个或多个选自O和S的杂原子； A+为下式II-c或II-d， II-c或II-d， n各自独立地为0-4的整数； m为0或1，以使N原子带正电荷； Q为含有一个带正电荷的N原子的C3-C5杂环基或C3-C5杂芳基，所述C3-C5杂环基任选地还包含一个或多个选自O、S和N的杂原子； R3各自独立地为C1-C4烷基。
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