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龙图腾网获悉深圳市长松新材料科技有限公司申请的专利一种高雾度耐高温下扩散膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120370447B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510761531.0，技术领域涉及：G02B5/02；该发明授权一种高雾度耐高温下扩散膜及其制备方法是由定发;文勇设计研发完成，并于2025-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高雾度耐高温下扩散膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种高雾度耐高温下扩散膜及其制备方法。一种高雾度耐高温下扩散膜，包括透明基膜及经微凹版辊涂布在透明基膜表面的扩散层，其中，所述扩散层，按质量份数计，包括以下制备原料：丙烯酸树脂低聚物60‑70份、丙烯酸树脂单体20‑30份、磷酸三苯酯2‑3份、耐刮擦剂6‑8份、光引发剂3‑5份、稀释剂6‑9份，其中所述耐刮擦剂为改性二氧化硅。本申请通过材料化学改性如SiO₂表面处理与树脂分子设计和工艺配方优化如光引发体系与稀释剂配比的双重创新，解决了传统扩散膜的技术瓶颈，包括高温高湿环境下的易老化、耐刮擦性不足及光均匀性差等问题。

本发明授权一种高雾度耐高温下扩散膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高雾度耐高温下扩散膜，其特征在于，包括透明基膜及经微凹版辊涂布在透明基膜表面的扩散层，其中，所述扩散层，按质量份数计，包括以下制备原料：丙烯酸树脂低聚物60-70份、2-苯氧基乙基丙烯酸酯20-30份、磷酸三苯酯2-3份、耐刮擦剂6-8份、光引发剂3-5份、稀释剂6-9份，其中所述耐刮擦剂为改性二氧化硅，所述扩散层的厚度为30-50μm； 所述丙烯酸树脂低聚物的制备方法为：按质量份数，将100份甲基丙烯酸异丙酯加入到反应器中，开动搅拌，在40-50rmin条件下搅拌升温至60-65℃，然后加入26.5份乙烯基三甲氧基硅烷、21份甲基苯基二乙烯基硅烷和0.25-0.35份钛酸四异丙酯，继续在搅拌条件下升温至90-95℃，并搅拌反应2-3h，然后在搅拌条件下降温至50-55℃，再加入5份质量浓度37%的盐酸，搅拌条件下进行水解-缩合反应3.5-4.5h，得到丙烯酸树脂低聚物； 所述改性二氧化硅的制备方法，包括以下步骤： S51、按照质量份数，将平均粒径为0.2-0.4μm的二氧化硅分散在质量浓度为75%的乙醇水溶液中，然后向其中加入乙烯基三甲氧基硅烷，调节溶液的pH为4.5-5，搅拌3-4h，经离心、洗涤、干燥，得到预处理二氧化硅，所述二氧化硅与乙烯基三甲氧基硅烷的质量份数比为100:2-3； S52、按照质量份数，将预处理二氧化硅分散在质量浓度为75%的乙醇水溶液中，加入丙烯酰胺，搅拌均匀，然后加入过氧化二苯甲酰，加热至70-75℃回流反应2-3h，待反应完成后，将反应产物进行离心、洗涤、干燥，得到改性二氧化硅，所述预处理二氧化硅、丙烯酰胺、过氧化二苯甲酰的质量份数比为10:2-3:0.2-0.3； 所述光引发剂由2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦和2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮以质量份数比3:2组成； 所述稀释剂由乙酸丁酯和异己酮以质量份数比4:3组成； 所述透明基膜为厚度为80-250μm的PET膜。

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