深圳晶源信息技术有限公司张展获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利图形提取优化方法、装置、设备及计算机存储介质、程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119722621B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411793460.4，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权图形提取优化方法、装置、设备及计算机存储介质、程序产品是由张展设计研发完成，并于2024-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本图形提取优化方法、装置、设备及计算机存储介质、程序产品在说明书摘要公布了：本申请公开了一种图形提取优化方法、装置、设备及计算机存储介质、程序产品，该方法包括：获取掩模设计图形文件中的主图形；对所述主图形对应的亚分辨率辅助图形进行调整，得到优化亚分辨率辅助图形，所述优化亚分辨率辅助图形用于使所述主图形对应的曝光图形轮廓与验证图形轮廓之间的贴合度满足预设贴合度条件；从所述优化亚分辨率辅助图形对应的像素点中提取出脊点，所述脊点对应的梯度值高于该脊点对应的领域范围内其余像素点的梯度值；根据所述掩模规则检查参数，利用所述脊点拟合脊线；将所述脊线转换为阶梯状折线；根据所述阶梯状折线生成目标亚分辨率辅助图形，该方法能够高效又精准地对亚分辨率辅助图形进行图形提取。
本发明授权图形提取优化方法、装置、设备及计算机存储介质、程序产品在权利要求书中公布了：1.一种图形提取优化方法，其特征在于，所述方法包括： 获取掩模设计图形文件中的主图形； 对所述主图形对应的亚分辨率辅助图形进行调整，得到优化亚分辨率辅助图形，所述优化亚分辨率辅助图形用于使所述主图形对应的曝光图形轮廓与验证图形轮廓之间的贴合度满足预设贴合度条件； 从所述优化亚分辨率辅助图形对应的像素点中提取出脊点，所述脊点对应的梯度值高于该脊点对应的领域范围内其余像素点的梯度值； 根据掩模规则检查参数，利用所述脊点拟合脊线； 将所述脊线转换为阶梯状折线； 根据所述阶梯状折线生成目标亚分辨率辅助图形，所述目标亚分辨率辅助图形为曼哈顿图形； 所述根据所述阶梯状折线生成目标亚分辨率辅助图形，包括： 在所述阶梯状折线的基础上，确定关键的折点，将所述关键的折点连接成曼哈顿图形，将所述曼哈顿图形确定为所述目标亚分辨率辅助图形。
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