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龙图腾网获悉贵州铜仁旭晶光电科技有限公司申请的专利滤光片旋涂制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119717103B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510211487.6，技术领域涉及：G02B5/20；该发明授权滤光片旋涂制备方法是由陈振中;卢彬;冉光普设计研发完成，并于2025-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本滤光片旋涂制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种滤光片旋涂制备方法，包括：获取前驱体溶液的电子跃迁特征数据和分子间作用力数据，确定前驱体分子的初始聚集状态参数和分子间相互作用强度参数；对基底表面进行介电常数调控处理，形成介电常数梯度分布和周期性微观结构；对功能化基底进行旋涂处理，施加电场、声场和光场，调节场强和空间分布；获取薄膜在不同散射角度的光强信号和偏振光检测信号，分析散射图案的各向异性特征；根据分子取向的空间分布数据，调节旋转速度、温度场和气流场，通过降温固化得到滤光片。本发明技术方案通过正交双光路检测获取前驱体分子的初始状态信息，利用多场协同作用对分子取向进行动态调控，结合实时监测和反馈优化，实现对分子排列的精确控制。

本发明授权滤光片旋涂制备方法在权利要求书中公布了：1.一种滤光片旋涂制备方法，其特征在于，包括： 获取前驱体溶液的电子跃迁特征数据和分子间作用力数据，根据所述电子跃迁特征数据和分子间作用力数据，确定前驱体分子的初始聚集状态参数和分子间相互作用强度参数，得到前驱体分子空间构象的定量表征数据； 根据所述定量表征数据，对基底表面进行介电常数调控处理，使所述基底表面形成从中心到边缘的介电常数梯度分布，并在所述基底表面形成周期性微观结构，得到具有定向作用力的功能化基底；具体包括：根据所述定量表征数据中的初始聚集状态参数和分子间相互作用强度参数，计算基底表面从中心到边缘的介电常数衰减函数，得到介电常数空间分布曲线；对基底表面进行梯度离子注入处理，根据所述介电常数空间分布曲线调控离子注入的能量分布和剂量分布，得到具有介电常数梯度的基底表面；根据所述分子间相互作用强度参数，计算基底表面微观结构的空间周期和深度参数，得到周期性微观结构的构型数据；对所述具有介电常数梯度的基底表面进行周期性微结构加工处理，根据所述构型数据控制微结构的周期间距和深度分布，得到周期性微观结构；对所述周期性微观结构进行表面电荷分布测试，获取静电力场和剪切力场的空间分布数据，得到具有定向作用力的功能化基底； 对所述功能化基底进行旋涂处理，在旋涂过程中对前驱体分子施加径向变化的电场、定向的声场和预设分布的光场，根据分子取向状态分别调节电场的强度与空间分布、声场的强度与空间分布以及光场的强度与空间分布，得到分子定向排列的薄膜； 获取所述薄膜在不同散射角度的光强信号和偏振光检测信号，根据所述光强信号和偏振光检测信号分析散射图案的各向异性特征，得到薄膜中分子取向的空间分布数据； 根据所述分子取向的空间分布数据，调节旋转速度的时变曲线，并控制温度场和气流场的分布参数，通过降温固化处理得到具有预设分子取向结构的滤光片。

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