京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司郭凯获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利一种背光模组及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119620463B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311170586.1，技术领域涉及：G02F1/13357；该发明授权一种背光模组及显示装置是由郭凯;彭锦涛;闫雨薇;卢美荣;徐智强;刘伟星;王欢欢;张春芳;滕万鹏;王新星设计研发完成，并于2023-09-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种背光模组及显示装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种背光模组及显示装置，其中，背光模组包括：透明基板，透明基板包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面具有多个第一凹槽；多个发光芯片，位于透明基板的第一表面一侧，且发光芯片的发光区域在第一表面的正投影落入第一凹槽所在区域；散射层，位于各第一凹槽内，散射层用于对发光芯片向第一凹槽内出射的光线进行散射，背光模组的匀光过程在第一凹槽及透明基板的内部即可完成，背光模组可以在具有更小的厚度的同时其出射光较均匀。
本发明授权一种背光模组及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种背光模组，其特征在于，包括： 透明基板，所述透明基板包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面具有多个第一凹槽； 多个发光芯片，位于所述透明基板的第一表面一侧，且所述发光芯片的发光区域在所述第一表面的正投影落入所述第一凹槽所在区域； 散射层，位于各所述第一凹槽内，所述散射层用于对所述发光芯片向所述第一凹槽内出射的光线进行散射； 第一反射层，所述第一反射层位于所述透明基板的第一表面与所述多个发光芯片之间，所述第一反射层包括多个与各所述第一凹槽一一对应的镂空区域； 聚光结构层，位于各所述第一凹槽内且位于所述散射层背离所述发光芯片的一侧。
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