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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学;哈工大苏州研究院申请的专利一种具有可控光降解性的高强高模高韧形状记忆聚(苯并咪唑-苯并恶唑)酰亚胺材料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119431780B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411543004.4，技术领域涉及：C08G73/10；该发明授权一种具有可控光降解性的高强高模高韧形状记忆聚(苯并咪唑-苯并恶唑)酰亚胺材料及其制备方法是由刘彦菊;王晓飞;冷劲松设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有可控光降解性的高强高模高韧形状记忆聚(苯并咪唑-苯并恶唑)酰亚胺材料及其制备方法在说明书摘要公布了：一种具有可控光降解性的高强高模高韧形状记忆聚苯并咪唑‑苯并恶唑酰亚胺材料及其制备方法，属于多功能高分子技术领域。本发明通过将含咪唑类、恶唑类的芳杂环二胺、联苯二酐和光敏基团吐昔酸经过两步缩聚和亚胺化，得到具有光降解基团的多嵌段形状记忆聚苯并咪唑‑苯并恶唑酰亚胺聚合物，该聚合物常温下的拉伸强度为262.2MPa，杨氏模量为6.0GPa，断裂伸长率为27.9％，形状回复阶段储能模量为100MPa，玻璃化转变温度Tgg为380℃，且具有形状记忆性能，形状固定率为99％，形状回复率为98％。该聚合物通过控制化学嵌段光敏基团的占比，使其具有光控降解特性，在光降解可展开柔性薄膜太空舱、可控光降解自适应变形柔性传感器等领域应用。

本发明授权一种具有可控光降解性的高强高模高韧形状记忆聚(苯并咪唑-苯并恶唑)酰亚胺材料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有可控光降解性的高强高模高韧形状记忆聚苯并咪唑-苯并恶唑酰亚胺材料的制备方法，其特征在于：所述形状记忆聚苯并咪唑-苯并恶唑酰亚胺材料的分子结构式如下所示： 其中，n1+n2+n3的取值范围为116~155；所述方法包括以下步骤： 步骤一、将含咪唑类的芳杂环二胺、含恶唑类的芳杂环二胺溶解于溶剂中，得到含-NH2基团的混合溶液；所述溶剂包括二甲基亚砜；所述含咪唑类的芳杂环二胺、含恶唑类的芳杂环二胺的物质的量比为1：1；所述含咪唑类的芳杂环二胺为2-4-氨基苯基-5-氨基苯并咪唑，所述含恶唑类的芳杂环二胺为2-4-氨基苯基-5-氨基苯并恶唑； 步骤二、在保护气氛下，将联苯二酐加入所述含-NH2基团的混合溶液中，反应12h，得到-NH2封端的聚酰胺酸溶液；所述联苯二酐为3,3’，4,4’-联苯四甲酸二酐、2,3,3'，4'-联苯四甲酸二酐中的一种； 步骤三、将吐昔酸加入所述的-NH2封端的聚酰胺酸溶液中，加入催化剂，反应24h，得到含有光敏基团的聚酰胺酸溶液；所述芳杂环二胺总量、联苯二酐和吐昔酸的物质的量比为2：1.7~1.88：0.12~0.3； 步骤四、将含有光敏基团的聚酰胺酸溶液浇注至基板上，置于真空烘箱中进行真空干燥处理，去除聚酰胺酸溶液中的气泡，得到不含气泡的聚酰胺酸溶液基板； 步骤五、将不含气泡的聚酰胺酸溶液基板置于高温烘箱中，梯度升温进行热亚胺化，得到含聚酰亚胺薄膜的基板； 步骤六、将含聚酰亚胺薄膜的基板置于水中保持1~2h，完成脱模，经过干燥后，得到具有可控光降解性的高强高模高韧形状记忆聚苯并咪唑-苯并恶唑酰亚胺材料。

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