比亚迪股份有限公司同远获国家专利权
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龙图腾网获悉比亚迪股份有限公司申请的专利复合膜、光学件及其制备方法、电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118272760B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310462804.2，技术领域涉及：C23C14/06；该发明授权复合膜、光学件及其制备方法、电子设备是由同远;刘玉阳;马兰;江向荣设计研发完成，并于2023-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本复合膜、光学件及其制备方法、电子设备在说明书摘要公布了：本发明涉及耐磨材料领域，公开了一种复合膜、光学件及其制备方法、电子设备。所述复合膜包括多层层叠的复合层，所述复合层包括：沉积层和在所述沉积层上的Si33N44层，其中，所述沉积层的组成包含晶体相和强化相，所述晶体相为AN，A选自Ti、Cr、W、V和Zr中的一种或几种；所述强化相为X，X选自Cu和或Ag。本申请得到的复合膜选择与AN完全不固溶的Cu或Ag加入AN涂层中，Cu或Ag的加入不仅大大降低涂层内应力，提高涂层硬度及断裂韧性，Cu或Ag原子的固溶强化以及细晶强化对于耐磨性、韧性和硬度带来大幅度提高，同时Si33N44由于其低的活动性吸附于生长的AN粒子表面，阻碍晶粒长大，膜层硬度进一步得到强化。
本发明授权复合膜、光学件及其制备方法、电子设备在权利要求书中公布了：1.一种复合膜，其特征在于，所述复合膜包括多层层叠的复合层，所述复合层包括：沉积层和在所述沉积层上的Si3N4层，其中，所述沉积层的组成包含晶体相和强化相，所述晶体相为AN，A选自Ti、Cr、W、V和Zr中的一种或几种；所述强化相为X，X选自Cu和或Ag；所述复合膜的总厚度为600-3000nm；所述复合膜中，所述沉积层和所述Si3N4层的厚度比为1：1-3。
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