清华大学王建龙获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学申请的专利一种去除偏二甲肼的电子束辐照工艺与系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117923597B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410116165.9，技术领域涉及：C02F1/30；该发明授权一种去除偏二甲肼的电子束辐照工艺与系统是由王建龙;王诗宗设计研发完成，并于2024-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种去除偏二甲肼的电子束辐照工艺与系统在说明书摘要公布了：本发明提供的一种去除偏二甲肼的电子束辐照工艺与系统，包括向偏二甲肼浓度为100‑50000mgL的待处理废水中加入氧化剂，然后进行电子束辐照；收集所述电子束辐照过程中溢出的气态偏二甲肼；将所述气态偏二甲肼返回至待处理废水中接受辐照；重复所述步骤2‑步骤3，直至所述待处理废水中的偏二甲肼被完全去除。本发明通过向待处理废水中加入氧化剂，然后进行电子束辐照，辐照作用使得水分解直接产生活性物种，以及辐照过程中产生的热量活化氧化剂产生的活性物种共同作用于去除偏二甲肼；进一步收集电子束辐照过程中由于水温升高而溢出的气态偏二甲肼，再将收集的气态偏二甲肼返回接受辐照，通过多次循环，直至偏二甲肼被完全去除。
本发明授权一种去除偏二甲肼的电子束辐照工艺与系统在权利要求书中公布了：1.一种去除偏二甲肼的电子束辐照工艺，其特征在于，所述工艺包括： 步骤1、向偏二甲肼浓度为100-50000mgL的待处理废水中加入氧化剂，然后进行电子束辐照；其中，所述氧化剂与偏二甲肼的摩尔比为1：1-5； 步骤2、收集所述电子束辐照过程中溢出的气态偏二甲肼； 步骤3、将所述气态偏二甲肼返回至待处理废水中接受辐照； 步骤4、重复所述步骤2-步骤3，直至所述待处理废水中的偏二甲肼被完全去除； 其中，所述氧化剂为双氧水或过二硫酸盐； 所述电子束辐照剂量为10-500kGy； 步骤1中，所述电子束辐照作用于所述待处理废水，使所述待处理废水的温度升高，升高的温度使所述氧化剂被活化，转化为能去除COD的活性物质； 当所述电子束辐照剂量为10-500kGy时，所述待处理废水的温度较接受电子束辐照前上升了0-30℃。
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