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龙图腾网获悉浙江奥首材料科技有限公司申请的专利一种用于纳米尺寸氧化硅层的蚀刻液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116875315B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310761188.0，技术领域涉及：C09K13/08；该发明授权一种用于纳米尺寸氧化硅层的蚀刻液及其制备方法是由侯军;赵晓莹;武文东;孙昊然;曲延琦设计研发完成，并于2023-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于纳米尺寸氧化硅层的蚀刻液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于纳米尺寸氧化硅层的蚀刻液，按照重量份计算包括如下组分：49％的氢氟酸5‑30份；40％的氟化铵5‑50份；复合改性剂0.5‑10份；润湿流平剂0.1‑1份；去离子水20‑60份。复合改性剂是阴阳离子表面活性剂的复配物；润湿流平剂为氟改性有机硅聚合物。同时本发明提供了利用上述蚀刻液对二氧化硅结构片进行蚀刻的方法。本发明采用复合改性剂不仅可以提高表面活性，降低表面张力，还可以提高各组分在基材表面的吸附量，表面吸附层分子排列更加紧密。复合改性剂和润湿流平剂一方面可以使溶液体系表面张力降低；另一方面可以使蚀刻角度减小，孔结构可控。同时氟的引入可显著降低蚀刻液的表面张力，提高对基材的润湿性，整体复合了流平、润湿和消泡功能。

本发明授权一种用于纳米尺寸氧化硅层的蚀刻液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于纳米尺寸氧化硅层的蚀刻液，其特征在于，按照重量份计算，包括如下组分： 质量浓度为49％的氢氟酸5-30份； 质量浓度为40％的氟化铵5-50份； 复合改性剂0.5-10份； 润湿流平剂0.1-1份； 去离子水20-60份； 其中，所述复合改性剂是阳离子表面活性剂与阴离子表面活性剂的复配物； 所述阳离子表面活性剂选自十六烷基二甲基苄基氯化铵、十六烷基二甲基苄基溴化铵、十六烷基二甲基苄基甲基溴化铵中的一种或几种； 所述阴离子表面活性剂为C原子数为8-16的硫酸酯盐； 所述的润湿流平剂为氟取代聚醚改性硅油，其制备方法如下： 步骤1：在氮气保护下，将聚醚改性硅油加入反应釜中，并将反应釜升温至25-60℃； 步骤2：在反应釜中加入含有NaH的四氢呋喃THF悬浮液，和氟化试剂，以100rmin的速度拌反应24-48h，即可制得氟取代聚醚改性硅油； 具体反应如下： 。

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