万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司王永东获国家专利权
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龙图腾网获悉万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司申请的专利一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116445085B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310409168.7，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用是由王永东;卞鹏程;徐贺;王瑞芹;王庆伟;李国庆;朱林君;张宏源;卫旻嵩;崔晓坤设计研发完成，并于2023-04-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用，所述抛光组合物以表面固定有有机酸的纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加含有椰油基的疏水性表面活性剂和聚氧乙烯‑聚氧丙烯亲水性共聚物作为选择比调节剂，还添加有由丙烯酸单体聚合形成的重均分子量约1000～200000的丙烯酸均聚物及其盐以及丙烯酸共聚物。本发明的抛光组合物包括由两种表面活性剂组成的选择比抑制剂和水溶性聚合物，绿色低毒，能够实现更宽的氮化硅、氧化硅对多晶硅材料的抛光选择性，同时也能有效地抑制抛光缺陷的产生。
本发明授权一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用在权利要求书中公布了：1.一种宽去除速率选择比的抛光组合物，其特征在于，包括表面固定有有机酸的纳米二氧化硅胶体、选择比调节剂、水溶性聚合物、速率促进剂、pH调节剂、杀菌剂和去离子水；所述选择比调节剂为含有椰油基的疏水性表面活性剂和聚氧乙烯-聚氧丙烯亲水性共聚物； 各组分含量为：表面固定有有机酸的纳米二氧化硅胶体5～24wt％、选择比调节剂0.01～1wt％、水溶性聚合物0.005～0.5wt％、速率促进剂0.05～3wt％、pH调节剂0.01～1wt％、杀菌剂0.005～0.2wt％，余量为去离子水； 所述选择比调节剂中含有椰油基的疏水性表面活性剂和聚氧乙烯-聚氧丙烯亲水性共聚物的质量比为1:3～7:1。
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