株式会社力森诺科古川晓之获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社力森诺科申请的专利浆料、研磨方法及半导体器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116348991B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180063604.9，技术领域涉及：H10P52/40；该发明授权浆料、研磨方法及半导体器件的制造方法是由古川晓之;岩野友洋;久保田茂树;植田敦子;影泽幸一设计研发完成，并于2021-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本浆料、研磨方法及半导体器件的制造方法在说明书摘要公布了：一种浆料，其含有磨粒、碳原子数3以上的化合物X及水，所述磨粒包含铈氧化物，所述化合物X的汉森溶解度参数的分散项dD为18.0MPa1212以下。一种研磨方法，其使用该浆料对被研磨面进行研磨。
本发明授权浆料、研磨方法及半导体器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种浆料，其含有磨粒、碳原子数3以上的化合物X及水， 所述磨粒包含铈氧化物， 所述化合物X的汉森溶解度参数的分散项dD为18.0MPa12以下， 在将该浆料中的所述磨粒的含量调整为5.0质量%而获得的分散液中，由下述式而计算的参数Y为0.110gm2以上， Y={所述分散液的NMR弛豫时间的倒数从所述分散液中去除了所述磨粒的状态下的NMR弛豫时间的倒数-1}所述磨粒的总表面积S。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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