上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司邹雪峰获国家专利权
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龙图腾网获悉上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司申请的专利一种金属层中最小线宽和最小间距的图形优化方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116203790B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310214554.0，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权一种金属层中最小线宽和最小间距的图形优化方法及装置是由邹雪峰设计研发完成，并于2023-03-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种金属层中最小线宽和最小间距的图形优化方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种金属层中最小线宽和最小间距的图形优化方法及装置，应用于光刻制造领域，包括：选取包括金属层中最小线宽和最小间距的图形，作为目标图形；目标图形为沿最小线宽和最小间距排列的方向，最小线宽的一侧只具有一个相邻间距的图形；目标图形中具有最小线宽和最小间距的区域为一个连续区域；选取目标图形中结束最小线宽或最小间距的第一图形区域；第一图形区域中的线宽或间距大于最小线宽和最小间距；将目标图形中具有最小线宽或最小间距的区域中，每个线宽和间距的区域边向第一图形区域移动。本发明通过将最小线宽和最小间距区域的区域边向结束最小线宽或最小间距的区域进行移动，减少了图形出现坏点的情况。
本发明授权一种金属层中最小线宽和最小间距的图形优化方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种金属层中最小线宽和最小间距的图形优化方法，其特征在于，包括： 选取包括金属层中最小线宽和最小间距的图形，作为目标图形；所述目标图形为沿所述最小线宽和最小间距排列的方向，所述最小线宽的一侧只具有一个相邻间距的图形；所述目标图形中具有最小线宽和最小间距的区域为一个连续区域； 选取所述目标图形中结束所述最小线宽或最小间距的第一图形区域，将所述目标图形中具有最小线宽或最小间距的区域作为第二图形区域；所述第一图形区域中的线宽或间距大于所述最小线宽和最小间距； 将所述第二图形区域中每个线宽和间距的区域边向所述第一图形区域移动。
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