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龙图腾网获悉广东省大湾区集成电路与系统应用研究院申请的专利工艺热点的确定方法、装置和光刻版图设计系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116088264B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211620724.7，技术领域涉及：G03F1/72；该发明授权工艺热点的确定方法、装置和光刻版图设计系统是由苏晓菁;韦亚一;李静静;粟雅娟设计研发完成，并于2022-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本工艺热点的确定方法、装置和光刻版图设计系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种工艺热点的确定方法、装置和光刻版图设计系统，该方法包括：第一绘制步骤，将基层图层以外的所有的图层的通孔图案绘制在基层图层上，得到通孔图案版图；第二绘制步骤，以各基层图层通孔图案的中心为圆心，以预定距离为半径，在通孔图案版图上绘制多个扫描圆；第一确定步骤，将通孔图案版图中与各扫描圆存在重叠区域的通孔图案确定为异常通孔图案；第二确定步骤，将扫描圆对应的异常通孔图案和扫描圆对应的基层图层通孔图案确定为异常通孔图案组，完成基层图层的扫描；重复步骤，依次重复第一绘制步骤、第二绘制步骤、第一确定步骤和第二确定步骤至少一次，直至完成所有的图层扫描，解决现有技术中工艺热点的检测效率低的问题。

本发明授权工艺热点的确定方法、装置和光刻版图设计系统在权利要求书中公布了：1.一种工艺热点的确定方法，其特征在于，光刻版图包括多层图层，各所述图层均包括多个通孔图案，所述方法包括： 第一绘制步骤，将基层图层以外的所有的所述图层的所述通孔图案绘制在所述基层图层上，得到通孔图案版图，使得所述通孔图案之间的相对位置保持不变，所述基层图层为任意一个所述图层； 第二绘制步骤，以各所述基层图层通孔图案的中心为圆心，以预定距离为半径，在所述通孔图案版图上绘制多个扫描圆，所述扫描圆与所述基层图层的所述通孔图案一一对应，所述基层图层通孔图案为所述基层图层中的所述通孔图案； 第一确定步骤，将所述通孔图案版图中与各所述扫描圆存在重叠区域的所述通孔图案确定为异常通孔图案； 第二确定步骤，将所述扫描圆对应的所述异常通孔图案和所述扫描圆对应的所述基层图层通孔图案确定为异常通孔图案组，完成所述基层图层的扫描，所述异常通孔图案组为可能是工艺热点的所述通孔图案的组合； 重复步骤，依次重复所述第一绘制步骤、所述第二绘制步骤、所述第一确定步骤和所述第二确定步骤至少一次，直至完成所有的所述图层扫描。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广东省大湾区集成电路与系统应用研究院，其通讯地址为：510535 广东省广州市开发区开源大道136号A栋；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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