上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司卢雷获国家专利权
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龙图腾网获悉上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司申请的专利一种光刻工艺窗口的确认方法、装置、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115981110B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211704129.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光刻工艺窗口的确认方法、装置、设备及存储介质是由卢雷设计研发完成，并于2022-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻工艺窗口的确认方法、装置、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光刻工艺窗口的确认方法、装置、设备及存储介质，应用于光刻技术领域，应用于APC系统，包括：基于APC系统获取量测数据；获取当前批次的过货条件，并依据当前批次的过货条件对测量数据进行筛选，得到第一筛选数据；将第一筛选数据中的线宽数据与标准线宽数据进行比对，并依据比对结果对第一筛选数据进行筛选，得到第二筛选数据；依据第二筛选数据绘制泊松曲线；基于APC系统的自动反馈机制，根据泊松曲线更新下一批次的过货条件。基于先进过程控制系统的自动反馈补偿机制，根据当前批次的光刻数据自动生成下一批次的光刻工艺窗口，以此降低工程师人为判定误差，并提高生产效率。
本发明授权一种光刻工艺窗口的确认方法、装置、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光刻工艺窗口的确认方法，其特征在于，应用于APC系统，包括： 基于APC系统获取量测数据；所述量测数据包括当前批次的光刻工艺参数，以及对应光刻曝光后所形成的线宽数据； 获取当前批次的过货条件，并依据当前批次的所述过货条件对所述量测数据进行筛选，得到第一筛选数据；所述过货条件为对应所述光刻工艺参数的筛选条件； 将所述第一筛选数据中的线宽数据与标准线宽数据进行比对，并依据比对结果对所述第一筛选数据进行筛选，得到第二筛选数据； 依据所述第二筛选数据绘制泊松曲线； 基于APC系统的自动反馈机制，根据所述泊松曲线更新下一批次的过货条件，以确认光刻工艺窗口。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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