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龙图腾网获悉圆益IPS股份有限公司申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115938980B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211075808.7，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置是由金台东;李晶桓;丁青焕;卢成镐;金颍俊设计研发完成，并于2022-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理装置，更详细地说，涉及通过高压及低压执行基板处理的基板处理装置。本发明公开了一种基板处理装置，包括：工艺腔室100，形成内部空间S1；基板支撑部200，在上面放置基板1；内盖部300，形成内部有所述基板支撑部200的密封的处理空间S2；气体供应部400，将工艺气体供应于所述处理空间S2；内盖驱动部600，驱动所述内盖部300的上下移动；填充部件700，设置在所述基板支撑部200与所述设置槽130的内面之间，以填充所述基板支撑部200与所述设置槽130的内面之间的空间中的至少一部分。

本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于，包括： 工艺腔室100，包括腔室主体110与顶盖140，所述腔室主体110为上部开放，在底面120中心侧形成设置槽130，并且在一侧包括用于进出基板1的闸门111，所述顶盖140结合于所述腔室主体110的上部以形成内部空间S1； 基板支撑部200，内插地设置在所述腔室主体110的所述设置槽130，并且在上面放置基板1； 内盖部300，可上下移动地设置在所述内部空间S1，通过下降，一部分紧贴于与所述设置槽130相邻的所述底面120，进而形成内部有所述基板支撑部200的密封的处理空间S2； 气体供应部400，设置成与所述处理空间S2连通，以将工艺气体供应于所述处理空间S2； 内盖驱动部600，贯通所述顶盖140设置，以驱动所述内盖部300的上下移动； 填充部件700，设置在所述基板支撑部200与所述设置槽130的内面之间，以填充所述基板支撑部200与所述设置槽130的内面之间的空间中的至少一部分， 所述填充部件700形成为与所述设置槽130和所述基板支撑部200之间的空间相对应的形状，以将所述处理空间S2最小化。

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