东方晶源微电子科技(北京)有限公司管小飞获国家专利权
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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)有限公司申请的专利一种套刻标记的筛选方法、可读存储介质及程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115826370B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211211377.2，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权一种套刻标记的筛选方法、可读存储介质及程序产品是由管小飞设计研发完成，并于2022-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种套刻标记的筛选方法、可读存储介质及程序产品在说明书摘要公布了：本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种套刻标记的筛选方法、可读存储介质及程序产品，套刻标记的筛选方法包含以下步骤：获取待筛选套刻标记的特征参数；获取套刻测量的光学参数，并根据光学参数建立光学模型；将特征参数带入光学模型并设定至少两个在预设范围内的套刻误差，再仿真计算出待筛选套刻标记的非对称性结果；将套刻误差与非对称性结果进行直线拟合计算，得到拟合结果；根据拟合结果对待筛选套刻标记进行筛选。本发明提供的套刻标记的筛选方法可筛选出容易出现较大测量误差的套刻标记。
本发明授权一种套刻标记的筛选方法、可读存储介质及程序产品在权利要求书中公布了：1.一种套刻标记的筛选方法，其特征在于：所述套刻标记的筛选方法包含以下步骤： 获取待筛选套刻标记的特征参数； 获取套刻测量所需的光学参数，并根据所述光学参数建立光学模型； 将所述特征参数代入所述光学模型并设定至少两个在预设范围内的套刻误差，再仿真计算出所述待筛选套刻标记的非对称性结果； 将所述套刻误差与所述非对称性结果进行直线拟合计算，得到拟合结果； 根据所述拟合结果对所述待筛选套刻标记进行筛选； 所述拟合结果包括拟合直线的截距与斜率的比值和或拟合直线的相关性指标。
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