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龙图腾网获悉中丰田光电科技(珠海)有限公司;深圳劲嘉集团股份有限公司申请的专利一种相交式微浮雕立体结构的光学防伪元件、产品及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115616690B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210480753.1，技术领域涉及：G02B3/00；该发明授权一种相交式微浮雕立体结构的光学防伪元件、产品及制备方法是由谢一;吕伟;罗万里;张研;龙高;王成阳设计研发完成，并于2022-05-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种相交式微浮雕立体结构的光学防伪元件、产品及制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种相交式微浮雕立体结构的光学防伪元件、产品及制备方法，所述制备方法包括：S1.制作微浮雕立体结构阵列，使微图文阵列和微透镜阵列的不动点基本重合，然后合成叠加，得到相交式微浮雕立体结构阵列，并生成对应的微浮雕光刻文件；S2.制备金属镍版；S3.制备复合模具金属镍版；S4.制备光学防伪膜；S5.制作反射介质层：在S4制得的所述光学防伪膜的微浮雕立体结构阵列层的表面设置反射介质层。本发明降低了生产难度，简化了工艺流程，光学防伪元件的品质更加稳定。

本发明授权一种相交式微浮雕立体结构的光学防伪元件、产品及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种相交式微浮雕立体结构的光学防伪元件的制备方法，其特征在于，包括： S1.制作微浮雕立体结构阵列：设计微图文阵列和微透镜阵列，将所述微图文阵列和微透镜阵列进行空间立体架构调制，使所述微图文阵列和微透镜阵列的不动点基本重合，然后合成叠加，得到相交式微浮雕立体结构阵列，并生成与所述相交式微浮雕立体结构阵列对应的微浮雕光刻文件；所述合成叠加具体为：将微图文阵列和微透镜阵列的表面形貌与曲率相交叠加，使所述微图文阵列嵌套在所述微透镜阵列中； S2.制备金属镍版：根据S1生成的所述微浮雕光刻文件对光刻玻璃上的感光胶层进行曝光、清洗，得到记录在所述感光胶层上的微浮雕立体结构阵列A，然后在微浮雕立体结构阵列A的表面进行化学镀，形成导电银层，再浸入电解槽进行电镀，制得金属镍版，所述微浮雕立体结构阵列A中的微图文阵列与微透镜阵列相交处的边界侧壁与感光胶层的夹角≥60度； S3.制备复合模具金属镍版：采用压印方法复制所述金属镍版上的所述微浮雕立体结构阵列A，并根据包装设计需求将阵列A与其他全息镭射结构进行组合排列，得到具有微浮雕立体结构阵列B的复合模具，然后在所述微浮雕立体结构阵列B的表面进行化学镀，形成导电银层，再浸入电解槽进行电镀，制得复合模具金属镍版； S4.制备光学防伪膜：采用压印方法将S3得到的所述复合模具金属镍版上的所述微浮雕立体结构阵列B复制到基材的一侧表面上，并进行固化，在所述基材的一侧表面形成微浮雕立体结构阵列层，制得光学防伪膜； S5.制作反射介质层：在S4制得的所述光学防伪膜的微浮雕立体结构阵列层的表面设置反射介质层； 所述S1中得到的所述微浮雕立体结构阵列中微图文阵列的结构线宽范围在500纳米到50微米之间，且所述微图文阵列和所述微透镜阵列的结构周期相近似，同时所述微图文阵列的微图文在光学防伪元件成像后的倍率与微图文阵列和微透镜阵列的周期差的比例应满足以下要求： 放大倍率式中TL为透镜周期，Tp为图文周期； 透镜曲率半径r：式中h为透镜高度，为透镜尺寸； 透镜焦距式中n为折射率； 莫尔图像尺寸

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