SKC索密思株式会社李乾坤获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉SKC索密思株式会社申请的专利空白掩模、使用其的光掩模以及半导体元件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115453817B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210641897.0，技术领域涉及：G03F1/54；该发明授权空白掩模、使用其的光掩模以及半导体元件的制造方法是由李乾坤;崔石荣;李亨周;金修衒;孙晟熏;金星润;郑珉交;曹河铉;金泰完;申仁均设计研发完成，并于2022-06-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本空白掩模、使用其的光掩模以及半导体元件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及空白掩模、使用其的光掩模以及半导体元件的制造方法，所述空白掩模包括透光基板以及配置在所述透光基板上的遮光膜。遮光膜包含过渡金属、氧以及氮中的至少任意一种。根据下述式1‑1的遮光膜的SA1值为60mNm至90mNm。[式1‑1]SA1＝γSLSL×tanθ。在上述式1‑1中，所述γSLSL是所述遮光膜和纯水purewater之间的界面能，所述θ是用纯水测量的所述遮光膜的接触角。所述空白掩模等在用清洗溶液清洗遮光膜时具有优异的清洗效果。另外，能够有效地抑制遮光膜被清洗之后残留的清洗溶液损伤。
本发明授权空白掩模、使用其的光掩模以及半导体元件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种空白掩模，其中，包括： 透光基板；以及 遮光膜，配置在所述透光基板上， 所述遮光膜包含过渡金属、氧以及氮中的至少任意一种， 根据下述式1-1的所述遮光膜的SA1值为60mNm至90mNm： [式1-1] 在上述式1-1中， 所述γSL是所述遮光膜和纯水之间的界面能， 所述θ是用纯水测量的所述遮光膜的接触角， 所述θ的值为70°以上。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人SKC索密思株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励