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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利一种光斑形貌测量装置、测量方法及激光退火设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115451858B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110641502.2，技术领域涉及：G01B11/24；该发明授权一种光斑形貌测量装置、测量方法及激光退火设备是由刘晓;黄元昊;刘洋;魏礼俊;刘志宇设计研发完成，并于2021-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光斑形貌测量装置、测量方法及激光退火设备在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种光斑形貌测量装置、测量方法及激光退火设备。其中包括：工件台和光斑形貌测量单元；光斑形貌测量单元用于将硅片上的光斑在第一方向上分割为多个能量分布区，其中，第一方向为硅片所在平面中的任一方向；还用于按照能量分布区在光斑中的位置，依次以不同的采集时间采集不同能量分布区中的辐射能量，其中，距离光斑的边缘越近的能量分布区所对应的采集时间越长；还用于根据不同能量分布区中的辐射能量，拼接形成光斑的能量分布图，获得光斑的形貌。本发明实施例能够解决现有激光光斑测量技术对于光斑边缘区域的测量容易失真的问题，保证激光光斑采集的准确性，提高光斑形貌的检测精度，避免失真情况的发生。

本发明授权一种光斑形貌测量装置、测量方法及激光退火设备在权利要求书中公布了：1.一种光斑形貌测量装置，其特征在于，包括： 工件台，用于承载硅片，所述硅片上可照射形成光斑； 光斑形貌测量单元，用于将所述硅片上的所述光斑在第一方向上分割为多个能量分布区，其中，所述第一方向为所述硅片所在平面中的任一方向；还用于按照所述能量分布区在所述光斑中的位置，依次以不同的采集时间采集不同所述能量分布区中的辐射能量，其中，距离所述光斑的边缘越近的所述能量分布区所对应的采集时间越长；还用于根据不同所述能量分布区中的辐射能量，拼接形成所述光斑的能量分布图，获得所述光斑的形貌； 所述光斑形貌测量单元包括延时积分相机，所述延时积分相机包括多重级数；所述延时积分相机用于按照所述能量分布区在所述光斑中的位置，依次以不同的曝光级数采集不同所述能量分布区中的辐射能量，其中，距离所述光斑的边缘越近的所述能量分布区所对应的曝光级数越多； 所述光斑形貌测量单元还包括线阵成像线扫镜头；所述线阵成像线扫镜头用于沿所述第一方向扫描，以将所述光斑的不同位置依次成像于所述延时积分相机沿所述第一方向排列的多个线阵中； 所述线阵成像线扫镜头还用于根据延时积分相机中线阵的长度、延时积分相机的采样频率以及最高曝光级数，计算线阵成像线扫镜头的扫描速度，并以所述扫描速度对当前的能量分布区进行曝光和采集辐射能量。

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