普赛昆腾公司梁勇获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉普赛昆腾公司申请的专利用于形成稳定的四方相钛酸钡的方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114902130B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080091275.4，技术领域涉及：G02F1/225；该发明授权用于形成稳定的四方相钛酸钡的方法和系统是由梁勇;M·G·汤姆森;张家铭;维玛尔·库玛·卡麦尼设计研发完成，并于2020-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于形成稳定的四方相钛酸钡的方法和系统在说明书摘要公布了：一种电光器件，包括衬底和在衬底上的波导。该波导包括层堆叠，该层堆叠包括与多个中间层交错的多个电光材料层、与层堆叠相邻的波导芯、波导覆层以及与所述多个电光材料层电接触的一对电极。所述多个中间层在室温和制冷温度下保持第一晶格结构。所述多个电光材料层在室温和制冷温度下保持第二晶格结构和结晶相。
本发明授权用于形成稳定的四方相钛酸钡的方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种用于制造电光器件的方法，包括： 在衬底上沉积籽晶层； 在所述籽晶层上外延沉积第一电光材料层； 在氧环境中在退火温度下对所述衬底、所述籽晶层和所述第一电光材料层进行退火，从而在所述衬底和所述籽晶层之间形成氧化物缓冲层，其中所述退火温度高于所述氧化物缓冲层的软化温度； 在退火之后冷却所述衬底，从而使所述第一电光材料层处于张应力下； 在所述第一电光材料层上沉积第一中间层，其中，所述第一中间层包括在室温和制冷温度下保持第一晶格结构的材料； 在所述第一中间层上沉积第二电光材料层；和 对所述第二电光材料层和所述第一中间层进行退火；以及 其中所述氧化物缓冲层被配置为释放晶片的所述籽晶层和所述第一电光材料层中的应力，通过上述结构，所述第一电光材料层和所述第二电光材料层在所述室温和所述制冷温度下保持第二晶格结构和结晶相。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人普赛昆腾公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励