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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)有限公司申请的专利一种解决掩模版着色边界冲突的方法、装置和计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114638189B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210260536.1，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权一种解决掩模版着色边界冲突的方法、装置和计算机设备是由陈运;张生睿设计研发完成，并于2022-03-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种解决掩模版着色边界冲突的方法、装置和计算机设备在说明书摘要公布了：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种解决着色边界冲突的方法、装置及计算机设备，包括以下步骤：S0：提供初始掩模版图；S1：将初始掩模版图划分成多个分块，分块内包含多个子单元，且每个分块内包含初始子单元和关键子单元；S2：选择初始掩模版图预定区域作为初始分块集合，所述初始分块集合包括至少一个分块，并对所述初始分块集合内的每个分块的子单元通过预设的着色函数进行着色，得到着色后的初始分块集合；S3：通过所述着色函数以及着色后的所述初始分块集合中每个分块的所述关键子单元对其他分块进行着色，得到着色掩模图形。本发明提供的方法提高了解决着色边界冲突问题的效率。

本发明授权一种解决掩模版着色边界冲突的方法、装置和计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种解决着色边界冲突的方法，其特征在于：包含以下步骤： S0：提供初始掩模版图； S1：将所述初始掩模版图划分成多个分块，所述分块内包含多个子单元，且所述多个子单元中包括预设的关键子单元和预设的初始子单元，其中所述关键子单元为当前分块与相邻分块相邻的边界上的子单元； S2：选择所述初始掩模版图预定区域作为初始分块集合，所述初始分块集合包括一个分块或多个相邻的分块，并在所述初始分块集合内通过预设的着色函数对分块进行着色，得到着色后的初始分块集合； S3：通过所述着色函数以及着色后的所述初始分块集合中每个分块的所述关键子单元的着色信息对其他分块进行着色，得到着色掩模图形，并且 步骤S3还包括以下步骤： S30：获取着色后的初始分块集合内每个分块的关键子单元的颜色； S31：根据所述关键子单元的颜色对所述初始分块集合相邻的分块的初始子单元进行着色，再根据所述初始子单元的颜色对当前分块内其他子单元进行着色； S32：根据当前分块内的关键子单元颜色对下一个相邻的分块进行着色； S33：重复步骤S32，直至完成所有分块的着色，得到着色掩模图形。

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