碲阳半导体(泰州)有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉碲阳半导体(泰州)有限公司申请的专利一种监测靶材厚度的磁控溅射设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223879823U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520290289.9,技术领域涉及:C23C14/35;该实用新型一种监测靶材厚度的磁控溅射设备是由请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成,并于2025-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种监测靶材厚度的磁控溅射设备在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种监测靶材厚度的磁控溅射设备,涉及靶材厚度检测技术领域,包括溅射设备的腔体,所述腔体的内壁包括腔体侧壁一和腔体侧壁二,所述腔体侧壁二的一面设有可进行竖直与横向的移动的激光测距仪,所述腔体侧壁一的一面固定连接有靶材,所述腔体侧壁一的上方设有与靶材通电的阴极。本实用新型通过激光测试仪对靶材的厚度能够进行实时的监测,可以直观的了解靶材消耗情况,避免过早的更换旧靶材存在浪费,增加了生产成本,过晚的更换靶材,造成杂质镀膜危害更大。
本实用新型一种监测靶材厚度的磁控溅射设备在权利要求书中公布了:1.一种监测靶材厚度的磁控溅射设备,包括溅射设备的腔体,其特征在于:所述腔体的内壁包括腔体侧壁一1和腔体侧壁二3,所述腔体侧壁二3的一面设有可进行竖直与横向的移动的激光测距仪5,所述腔体侧壁一1的一面固定连接有靶材2,所述腔体侧壁一1的上方设有与靶材2通电的阴极。
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