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龙图腾网获悉翌颖科技(上海)有限公司申请的专利一种基于Chirp-Z变换的薄膜厚度快速测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120950811B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511462394.7，技术领域涉及：G06F17/14；该发明授权一种基于Chirp-Z变换的薄膜厚度快速测量方法是由吴家伟;李扬;盘健冰;肖烈斌;陈鑫荣设计研发完成，并于2025-10-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于Chirp-Z变换的薄膜厚度快速测量方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于Chirp‑Z变换的薄膜厚度快速测量方法，包括以下步骤：1光谱数据采集；2数据预处理；3CZT线性调频Z变换参数配置以及CZT频谱计算；4峰值筛选；5根据峰值和等效折射率计算得到薄膜的厚度。本发明在接收到处理后的光谱仪采集数据后，进行数据预处理，使用Chirp‑Z变换进行频谱分析，获取频谱峰值精准定位，利用等效折射率计算薄膜厚度，从而实现高效、高精度的薄膜厚度测量。

本发明授权一种基于Chirp-Z变换的薄膜厚度快速测量方法在权利要求书中公布了：1.一种基于Chirp-Z变换的薄膜厚度快速测量方法，其特征在于，包括以下步骤： 1光谱数据采集； 2数据预处理：将采集到的光谱数据转化为均匀的波数相关光谱，然后采用截断的方式去除一些边界干扰的数据； 3CZT参数配置以及CZT频谱计算，其中，CZT为线性调频Z变换； 具体步骤包括： 第一步：根据输入的参数计算核心缩放因子与螺旋参数： 计算频率缩放系数scale：公式为fu-fl*mfs*m-1，其中fs是为光谱数据的波数采样频率，m是输出点数，fu为指定厚度范围的上限，fl为指定厚度范围的下限； 计算起始点因子A：为复数exp2.0*I*PI*flfs，对应目标频率区间的起始相位，其中I是单位虚数，PI是圆周率，exp是自然指数； 计算螺旋因子W：为复数exp-2.0*I*PIm*scale，用于控制Z平面上的螺旋采样轨迹； 第二步：预计算二次相位因子向量wk2： 循环计算每个元素的二次相位因子，公式为wk2i=exp-I*PI*scale*i²m，该向量用于后续信号的相位校正与卷积核构造；其中，i为离散变量； 第三步：计算输入序列校正系数Awk2： 构造ak向量每个元素为exp-2.0*I_*PI_*flfs*i， 计算Awk2将ak与wk2的前n个元素逐点相乘，n是输入数据的长度； 第四步：构造卷积核并预计算其FFT： 构造卷积核temphn：取wk2中索引1到n-1的元素，并逆序排列拼接wk2中索引0到m-1的元素，其中n、m均为正整数； 对temphn数组中的每个元素取倒数，将计算后的倒数结果保存到Fwk2，用于后续通过FFT快速计算卷积； 第五步：对输入信号进行预处理： 将输入信号乘以Awk2对原始信号进行相位预处理，结果记为gn； 第六步：利用FFT变换加速卷积计算： 计算gn的傅里叶变换Gn； 将Gn与卷积核Fwk2进行逐点相乘； 对乘积结果做逆FFT，得到卷积结果y； 第七步：相位校正 通过起始索引和目标长度提取y中有效片段，筛选出卷积结果中与目标频率区间相关的有效部分，排除边缘冗余数据； 将提取的有效结果与预计算的wk2逐点相乘得到目标范围的频谱； 4峰值筛选：对于单层膜，峰值只有一个，通过提取最大值法直接计算，或者使用高斯函数拟合后进行选取；对于多层膜，设定振幅阈值T=0.6×maxFf，或使用一阶导数为零、二阶导数为负的判断准则，或通过高斯函数拟合进行多峰拟合；其中，Ff为光谱的频谱函数； 5根据峰值和等效折射率计算得到薄膜的厚度：利用等效折射率将横轴坐标点转化为厚度，等效折射率利用端点简易法或多点线性加权法或积分法计算，对应的横轴值公式为： ； 其中是等效折射率，是算法配置时的最小厚度，是配置的最大厚度，N是点数索引，m是采样点数。

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