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龙图腾网获悉江南阀门有限公司申请的专利用于超高速激光熔覆的陶瓷复合粉体成型工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120841984B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511363381.4，技术领域涉及：C04B41/88；该发明授权用于超高速激光熔覆的陶瓷复合粉体成型工艺是由黄子龙;孙伟;杨铭设计研发完成，并于2025-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于超高速激光熔覆的陶瓷复合粉体成型工艺在说明书摘要公布了：一种用于超高速激光熔覆的陶瓷复合粉体成型工艺，通过对陶瓷粉表面进行PVD包覆钴处理，制备一种新型的复合粉体，以改善陶瓷粉在超高速激光熔覆中的性能。首先，通过PVD包覆钴，可以改善陶瓷粉与金属基体的润湿性。钴作为一种金属，与金属基体具有较好的亲和性，在超高速激光熔覆过程中，钴包覆层能够在陶瓷粉与基体之间起到桥梁作用，促进两者之间的冶金结合，减少涂层裂纹和剥落等缺陷的产生。其次，钴包覆层可以在一定程度上保护陶瓷粉免受高能激光的直接作用，降低陶瓷粉在熔覆过程中的分解和烧损程度，保证陶瓷相在涂层中的有效含量，从而提高涂层的硬度、耐磨性等性能。

本发明授权用于超高速激光熔覆的陶瓷复合粉体成型工艺在权利要求书中公布了：1.一种用于超高速激光熔覆的陶瓷复合粉体成型工艺，其特征在于：包括如下步骤： 步骤一：原材料准备，选取纯度不低于99％的陶瓷粉为原料，并准备纯度为99.9%以上的钴靶材作为PVD包覆过程中的钴源； 步骤二：PVD设备准备，采用等离子体增强物理气相沉积设备，在设备的真空腔室内安装粉末分散装置和气体导流系统； 步骤三：抽真空，将陶瓷粉放入PVD设备的真空腔室后，启动真空泵，将腔室内的气压抽至5.0x10⁻4Pa以下； 步骤四：预热，在真空状态下，对陶瓷粉进行预热处理，将温度升高至350℃~450℃，并保持45~90min； 步骤五：氩离子轰击清洗与表面活化，通入工作气体，通过辉光放电的射频电源产生等离子体，使工作气体电离形成等离子体氛围，在等离子体的作用下，进一步激活陶瓷粉表面的原子； 步骤六：钴沉积，启动钴靶材的溅射装置，使钴靶材表面的钴原子被溅射出来，在等离子体的驱动下，钴原子均匀地沉积在陶瓷粉表面； 步骤七：冷却与取出，沉积完成后，关闭溅射装置和等离子体源，停止通入工作气体，让真空腔室内的温度自然冷却至室温，然后缓慢放入空气，解除真空状态，取出包覆好的陶瓷粉表面包覆钴的复合粉体； 步骤八：质量检测与控制：对制备好的复合粉体进行全面的质量检测，包括采用扫描电子显微镜观察复合粉体的表面形貌和包覆层的均匀性，使用能谱分析仪检测包覆层中钴的含量和分布情况，通过X射线衍射仪分析复合粉体的物相结构，根据检测结果，及时调整PVD工艺参数，确保每批次复合粉体的质量稳定和性能符合要求。

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