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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利显示基板及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119547011B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202480001070.0，技术领域涉及：G02F1/1362；该发明授权显示基板及显示装置是由胡合合;赵伟利;李佩柔;姚念琦;赵坤;宁策;方正;张振宇;玄明花;李正亮;郭晖;袁广才;董学设计研发完成，并于2024-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及显示装置在说明书摘要公布了：一种显示基板，包括阵列基板和彩膜基板。阵列基板包括第一衬底、第一导电层、第一绝缘层、第一过孔、半导体层和连接电极。第一导电层包括间隔分布的第一信号线和第一图案。第一绝缘层设置于第一导电层远离第一衬底的一侧。第一过孔至少贯穿第一绝缘层，且至少暴露部分第一信号线。半导体层包括半导体图案。半导体图案包括第一部、第二部以及位于第一部和第二部之间的沟道结构。第一部在第一衬底上的正投影与第一信号线在第一衬底上的正投影部分重合，沟道结构在第一衬底上的正投影位于第一图案在第一衬底的正投影的范围之内。连接电极设置于半导体层远离第一衬底的一侧，连接电极的至少部分位于第一过孔内，且分别与第一部和第一信号线连接。

本发明授权显示基板及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，包括阵列基板和彩膜基板；其中，所述阵列基板包括： 第一衬底； 第一导电层，设置于所述第一衬底的一侧，包括间隔分布的第一信号线和第一图案； 第一绝缘层，设置于所述第一导电层远离所述第一衬底的一侧； 第一过孔，至少贯穿所述第一绝缘层，且至少暴露部分所述第一信号线； 半导体层，设置于所述第一绝缘层远离所述第一衬底的一侧，包括半导体图案；所述半导体图案包括第一部、第二部以及位于所述第一部和所述第二部之间的沟道结构；所述第一部在所述第一衬底上的正投影与所述第一信号线在所述第一衬底上的正投影部分重合，所述沟道结构在所述第一衬底上的正投影位于所述第一图案在所述第一衬底的正投影的范围之内； 连接电极，设置于所述半导体层远离所述第一衬底的一侧，所述连接电极的至少部分位于所述第一过孔内，且分别与所述第一部和所述第一信号线连接； 第一电极，所述第一电极设置于所述连接电极所在膜层远离所述第一衬底的一侧，所述第一电极在所述第一衬底上的正投影覆盖所述第一信号线在所述第一衬底上的正投影；所述第一电极包括第一延伸段，所述第一延伸段的延伸方向与所述第一信号线的延伸方向相同，所述第一延伸段在所述第一衬底上的正投影覆盖所述第一信号线在所述第一衬底上的正投影，且所述第一延伸段和所述第一信号线在所述第一衬底上的正投影中相互靠近的边界之间具有第一间隔。

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