江苏久朗高科技股份有限公司;南京工大膜应用技术研究所有限公司武军伟获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏久朗高科技股份有限公司;南京工大膜应用技术研究所有限公司申请的专利一种薄壁低阻力碳化硅陶瓷膜及其制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119425416B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411554352.1，技术领域涉及：B01D71/02；该发明授权一种薄壁低阻力碳化硅陶瓷膜及其制备工艺是由武军伟;仲兆祥;韩峰;周群;魏巍;徐超男设计研发完成，并于2024-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种薄壁低阻力碳化硅陶瓷膜及其制备工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种薄壁低阻力碳化硅陶瓷膜及其制备工艺，所述陶瓷膜为一体烧结制备成型的一端密封的管状膜，由上到下包括膨胀端头、连接颈部、管身、管底。在保证陶瓷膜强度和韧性的同时，降低碳化硅陶瓷膜的壁厚，减小运行阻力。本发明采用在管身加入增韧层的方式，利用增韧材料增加陶瓷膜的强度和韧性，可将碳化硅陶瓷膜的管身厚度降低至10mm以内，与普通碳化硅陶瓷膜相比，厚度降低，强度提升，过滤阻力降低30%以上。降低了运行能耗，增加了陶瓷膜强度，延长了陶瓷膜使用寿命。
本发明授权一种薄壁低阻力碳化硅陶瓷膜及其制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种薄壁低阻力碳化硅陶瓷膜，其特征在于，所述陶瓷膜为一体烧结制备成型的一端密封的管状膜，由上到下包括膨胀端头1、连接颈部2、管身3、管底4；所述连接颈部2内侧一周向内形成凸起201，构成环状喉道，凸起201上部位于膨胀端头1内，下部位于管身3内部，并分别深入膨胀端头1和管身32-5cm；所述的膨胀端头1、连接颈部2、管身3和管底4的管壁为多层结构，由外而内包括分离膜层301、过渡层302、增韧层303、内支撑层304，分离膜层301厚度为50-100μm，过渡层302厚度为500-1000μm，增韧层303厚度为3-4mm，内支撑层304厚度为2-3mm，增韧层303内设有增韧材料3031，所述增韧材料3031为金属网、多孔泡沫金属或泡沫陶瓷中的一种或多种；凸起201为内支撑层304材料加厚，厚度为3-5mm。
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