北京北方华创微电子装备有限公司高雄获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利一种加热装置及半导体处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119243123B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310808619.4，技术领域涉及：C23C16/46；该发明授权一种加热装置及半导体处理设备是由高雄设计研发完成，并于2023-07-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种加热装置及半导体处理设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种加热装置及半导体处理设备，加热装置位于基座的一侧，具有中心区域和多个环形区域；每一环形区域包括沿环形区域周向均匀设置的多个加热灯和位于多个加热灯远离基座一侧的环形反射板；每一环形区域，加热装置还包括位于环形区域靠近中心区域一侧的反射组件；反射组件包括与对应的环形区域内的多个加热灯一一对应的多个反射板；反射板由环形反射板向基座的方向延伸，以限定对应的加热灯的光照射在基座的预设区域内；反射组件用于使多个加热灯对应的预设区域位于基座的不同径向范围内。本申请可以避免光线集中照射在同一区域而使光照沿半径方向呈断崖式分布，从而实现光照强度的渐变，可以提高加热的均匀性。
本发明授权一种加热装置及半导体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种加热装置，用于对半导体腔室内的基座进行加热，其特征在于，所述加热装置位于所述基座的一侧，所述加热装置具有中心区域和由所述中心区域向外依次环绕所述中心区域的多个环形区域； 每一所述环形区域包括沿所述环形区域周向均匀设置的多个加热灯和位于所述多个加热灯远离所述基座一侧的环形反射板； 针对每一所述环形区域，所述加热装置还包括位于所述环形区域靠近所述中心区域一侧的反射组件；所述反射组件包括与对应的所述环形区域内的多个加热灯一一对应的多个反射板； 所述反射板由所述环形反射板向所述基座的方向延伸，以限定对应的所述加热灯的光照射在所述基座的预设区域内； 所述反射组件用于使所述多个加热灯对应的所述预设区域位于所述基座的不同径向范围内；其中，所述环形区域的中心轴线与基座的中心轴线同轴。
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