北京北方华创微电子装备有限公司刘建军获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119020736B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310595436.9，技术领域涉及：C23C14/34；该发明授权物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备是由刘建军设计研发完成，并于2023-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备，该装置中的第一准直器和第二准直器均设置于工艺腔室中，且层叠设置于工艺腔室中的靶材与基座之间，第一准直器具有多个第一镂空部，第二准直器具有多个第二镂空部，各第一镂空部和各第二镂空部对应设置；第一准直器和或第二准直器能够在其自身所在的平面内运动，用以调节各第一镂空部和对应的各第二镂空部的重叠部分的横截面积。本方案可以适用于多种具有不同深宽比特征的孔及凹槽的晶圆，使之达到最优的底部覆盖率，而且无需更换准直器，从而可以提高生产效率和机台利用率。
本发明授权物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种物理气相沉积设备的准直装置，其特征在于，包括第一准直器和第二准直器，所述第一准直器和所述第二准直器均设置于所述物理气相沉积设备的工艺腔室中，且层叠设置于所述工艺腔室中的靶材与基座之间； 所述第一准直器具有多个第一镂空部，所述第二准直器具有多个第二镂空部，各所述第一镂空部和各所述第二镂空部对应设置； 所述第一准直器是固定的，所述第二准直器能够在其自身所在的平面内运动，用以调节各所述第一镂空部和对应的各所述第二镂空部的重叠部分的横截面积。
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