北京北方华创微电子装备有限公司成佳东获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118854257B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310484132.5，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权半导体工艺设备是由成佳东设计研发完成，并于2023-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本申请提供一种半导体工艺设备，包括半导体工艺腔室和用于向半导体工艺腔室输送工艺气体的进气装置，进气装置用于向半导体工艺腔室输送工艺气体，包括装置本体和气量调节机构，装置本体具有输送通道，装置本体还具有间隔围绕输送通道设置的环形通道，输送通道的侧壁设有多个连通环形通道的进气孔，装置本体连有用于输送工艺气体的进气管路；气量调节机构能够在输送通道内转动，并遮挡进气孔。进气管路将工艺气体送入环形通道，环形通道能够使工艺气体重新分配。气量调节机构能够遮挡进气孔，改变工艺气体在各个进气孔的分布，再由进气孔进入输送通道中，使工艺气体的分布满足薄膜均匀生长的要求。
本发明授权半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括半导体工艺腔室和用于向所述半导体工艺腔室输送工艺气体的进气装置，所述进气装置包括装置本体和气量调节机构，所述装置本体具有输送通道，所述装置本体还具有环形通道，所述环形通道围绕于所述输送通道的外周，所述输送通道的侧壁设有多个与所述环形通道连通的进气孔，所述装置本体连有进气管路，所述进气管路与所述环形通道连通，所述环形通道用于将所述工艺气体通过所述进气孔送入所述输送通道； 所述气量调节机构能够在所述输送通道内转动，并遮挡所述进气孔，以调节所述工艺气体的分布。
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