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龙图腾网获悉青海亚洲硅业多晶硅有限公司;亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海亚洲硅业硅材料有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司申请的专利一种多晶硅生产工艺及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117623314B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311574925.2，技术领域涉及：C01B33/03；该发明授权一种多晶硅生产工艺及系统是由赵以宏;高志明;张军文;纪晓艳;鲍守珍;李倩;刘军设计研发完成，并于2023-11-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多晶硅生产工艺及系统在说明书摘要公布了：本申请提供一种多晶硅生产工艺及系统，涉及多晶硅生产技术领域。氯碱电解所产生的H22作为氯化氢合成工序、多晶硅还原工序和冷氢化工序的氢气原料使用，氯碱电解产生的Cl22作为氯化氢合成工序的氯原料使用，氯化氢合成工序所产生的氯化氢提供给冷氢化工序使用，将硅粉、SiCl44、HCl以及H22在冷氢化反应器内反应，冷氢化工序所产生的粗三氯氢硅提供给精馏进行分馏，中间产物二氯二氢硅由固定床生产硅烷；中间产物四氯化硅及氢气作为冷氢化工序的原料用于生成三氯氢硅，而三氯氢硅作为多晶硅还原工序的原料之一用于生成多晶硅。其能够充分利用原料和副产物，降低生产体系对外界的依赖程度，且能够有效地降低三废排放量。

本发明授权一种多晶硅生产工艺及系统在权利要求书中公布了：1.一种多晶硅生产工艺，其特征在于，包括以下步骤： 氯碱工序步骤：将来自废料处理工序步骤的NaCl浓缩液经过处理去杂，电解后得到Cl2、H2和NaOH溶液，并将所述H2提供至氯化氢合成工序、冷氢化工序、多晶硅还原工序； 氯化氢合成工序：将来自所述氯碱工序步骤的Cl2和H2合成生成HCl，并提供至所述冷氢化工序； 冷氢化工序：将硅粉、固定床生产硅烷工序提供的SiCl4、HCl以及H2在冷氢化反应器内反应，产生的氯硅烷混合气，经粗分塔分离后得到粗三氯氢硅，进入精馏工序；所述反应后的废料经沉降和汽提后得到含硅粉、高沸、金属杂质的废料氯硅烷； 精馏工序：将所述冷氢化工序产生的所述粗三氯氢硅以及还原尾气回收工序产生的氯硅烷混合液通过精馏分离为SiCl4、SiH2Cl2和SiHCl3，并将所述SiCl4提供至所述冷氢化工序，将所述SiHCl3提供至多晶硅还原工序，将所述SiH2Cl2提供至固定床生产硅烷工序； 固定床生产硅烷工序：将所述精馏工序提供的SiH2Cl2为原料生产硅烷与SiCl4，将所述SiCl4提供至所述冷氢化工序； 硅烷法生产颗粒硅工序：将所述固定床生产硅烷工序生产的硅烷为原料在流化床进行反应生产颗粒硅及H2，将所述H2提供至所述冷氢化工序; 多晶硅还原工序：以H2、来自所述精馏工序的SiHCl3作为原料，制造多晶硅并得到副产物还原尾气； 还原尾气回收工序：将所述还原尾气初步分离为H2、HCl和氯硅烷混合液，并将所述H2提供至所述冷氢化工序和所述多晶硅还原工序，将所述HCl提供至所述冷氢化工序，将所述氯硅烷混合液供提供至所述精馏工序；以及 废料处理工序：对来自各工序的废气、废液、固废进行淋洗处理，产生的含氯离子酸性废水用所述氯碱工序产生的所述NaOH溶液作为中和液，进行酸碱中和反应，产生NaCl溶液经浓缩处理后得到所述NaCl浓缩液，提供至所述氯碱工序步骤。

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