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杭州美迪凯光电科技股份有限公司杨巨椽获国家专利权

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龙图腾网获悉杭州美迪凯光电科技股份有限公司申请的专利一种LT与LN来料裸片涂布工艺获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117619689B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311444836.6,技术领域涉及:B05D1/26;该发明授权一种LT与LN来料裸片涂布工艺是由杨巨椽;王天荣;陈银培设计研发完成,并于2023-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。

一种LT与LN来料裸片涂布工艺在说明书摘要公布了:本发明公开了一种LT与LN来料裸片涂布工艺。本发明工艺通过NMP浸泡产生化学反应,改变LT&LN表面的性质,提高片子洁净度,减小水滴角,提升旋涂涂胶时对胶的附着力,再通过剥离清洗,使其表面保持干净、干燥,既能解决LT与LN来料裸片旋涂涂胶时涂不满的现象,又能充分提高产品质量和良率。

本发明授权一种LT与LN来料裸片涂布工艺在权利要求书中公布了:1.一种LT与LN来料裸片涂布工艺,其特征是,其工艺步骤为: S1、将LT与LN来料裸片放入去胶机内浸泡槽卡槽内用NMP进行一段时间的浸泡; S2、浸泡结束后,将LT与LN来料裸片输送至剥离腔,在剥离腔中用NMP对LT与LN来料裸片的表面进行剥离,去除表面残留物; S3、将完成步骤S2的LT与LN来料裸片传送至清洗腔,在清洗腔中用IPA与N2通过喷嘴进行冲洗和喷吹,冲洗完成后继续使用DIW通过喷嘴进行冲洗,将表面的NMP残液去除干净; S4、将完成步骤S3的LT与LN来料裸片甩干,并通过旋涂工艺对LT与LN来料裸片进行旋涂,完成整个LT与LN来料裸片涂布工艺; 步骤S1中,LT与LN来料裸片放入去胶机内用NMP进行浸泡的时间为3min,浸泡的温度为80℃; 步骤S2中,剥离腔中剥离过程是通过机械手臂夹持住LT与LN来料裸片并以固定速度旋转,同时高压喷头来回摆动用NMP对其表面进行高压冲洗剥离120s; 所述高压喷头液体压力控制在0.3-0.4MPa; 步骤S3中,IPA与N2进行冲洗和喷吹的条件分别为:IPA冲洗压力0.05-0.1MPa,N2喷吹压力0.2-0.3MPa,冲洗时间为90s, 步骤S3中,DIW进行冲洗的冲洗条件为:DIW冲洗压力0.3-0.3MPa,冲洗时间为90s。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人杭州美迪凯光电科技股份有限公司,其通讯地址为:310000 浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道20号大街578号3幢;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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