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龙图腾网获悉福州大学;清源创新实验室申请的专利一种高分散、高稳定性的Pd基催化剂的制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117358233B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311327553.3，技术领域涉及：B01J23/648；该发明授权一种高分散、高稳定性的Pd基催化剂的制备方法及其应用是由袁珮;王世栋;张宏伟;鲍晓军设计研发完成，并于2023-10-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高分散、高稳定性的Pd基催化剂的制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高分散、高稳定性的Pd基催化剂的制备方法及其应用，其采用传统浸渍法在二氧化钛纳米片表面附着金属盐，然后通过还原剂辅助策略将金属原子引入二氧化钛晶格来诱导生成氧空位并将TiO22中的Ti4+4+还原形成Ti3+3+缺陷位点，再利用诱导生成的氧空位和Ti3+3+缺陷位点共同作为活性组分的锚定位点，实现活性组分Pd的高效分散性和稳定负载。本发明所得催化剂为典型的层状结构，可以有效消除聚合物在催化剂孔道中的扩散限制，其表面缺陷位点可作为活性金属的电子供体和锚定位点来精确调控贵金属颗粒的几何、电子结构的精确调控，进而显著提高NBR的加氢活性，因此在高附加值HNBR的制备中具有良好的应用前景。

本发明授权一种高分散、高稳定性的Pd基催化剂的制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种高分散、高稳定性的Pd基催化剂的制备方法，其特征在于：采用NaBH4作为还原剂，将其与表面附着金属盐的二氧化钛纳米片混合后在惰性气氛下进行煅烧，从而在使金属原子掺入TiO2晶格并进一步诱导形成氧空位的同时，使原有的Ti4+离子还原形成Ti3+缺陷位点，再通过等体积浸渍法负载活性金属Pd，经还原后得到所述高分散、高稳定性的Pd基催化剂；其包括以下步骤： 1先将二氧化钛纳米片分散至金属盐溶液中，在60-90℃下搅拌6-12h，之后离心、干燥，再加入一定量的NaBH4研磨混合，在惰性气氛保护下进行煅烧，得到富含氧空位和Ti3+缺陷位点的二氧化钛纳米片； 2将钯前驱体用溶剂超声溶解后，在搅拌条件下将所得溶液均匀滴加于所得富含氧空位和Ti3+缺陷位点的二氧化钛纳米片中，室温静置12h后在H2气氛下进行高温还原，得到所述Pd基催化剂； 其中，所用金属盐为Mn、Cu、V、Mo中一种或几种的硝酸盐。

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