西安工程大学马明明获国家专利权
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龙图腾网获悉西安工程大学申请的专利除氟材料的制备方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116966886B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310335593.6，技术领域涉及：B01J20/30；该发明授权除氟材料的制备方法及应用是由马明明;崔淑慧设计研发完成，并于2023-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本除氟材料的制备方法及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种除氟材料的制备方法，具体按照以下步骤实施：步骤1、铜片的预处理；步骤2、羟基磷灰石的电化学制备，本发明还公开了除氟材料对废水氟离子的去除的应用。本发明解决了现有化学合成方法中存在的羟基磷灰石合成过程粒子易团聚、晶体粒径不均匀，使得氟吸附容量过小的问题。
本发明授权除氟材料的制备方法及应用在权利要求书中公布了：1.除氟材料的制备方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施： 步骤1、铜片的预处理； 所述步骤1具体按照以下步骤实施： 去掉高纯无氧铜片的表层氧化膜，磨至表面光滑锃亮后，依次在无水乙醇、丙酮中超声清洗2min-10min以除杂，得到洁净的铜片晾干后备用； 步骤2、羟基磷灰石的电化学制备； 所述步骤2具体按照以下步骤实施： 在传统三电极工作体系下，将预处理过的表面光滑的铜片电极即步骤1得到的铜片、铂电极和饱和甘汞电极分别作为工作电极、对电极和参比电极，浸入pH为3.0-10.0的混合支持电解液中，保持溶液中钙磷盐含量达过饱和状态，即钙磷盐含量大于羟基磷灰石HAP的溶度积常数，在扫描电位范围为-0.8~-1.45V内，以0.1-0.5Vs描速扫描200-500圈后，将铜片取出，用蒸馏水清洗数次，自然晾干得到二水磷酸氢钙DCPD，将二水磷酸氢钙DCPD置于NaOH溶液中浸泡后得到除氟材料即羟基磷灰石HAP，用蒸馏水冲洗至铜片表面pH为中性，自然晾干，用小刀刮下表面涂层待用； 所述步骤2中混合支持电解液为0.0025molL的CaNO32·4H2O以及0.15molL的NaNO3和0.025molL的NH4H2PO4的混合而成，所述步骤2中将二水磷酸氢钙DCPD置于0.05-0.2molL的NaOH溶液中浸泡10-30h。
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