浙江奥首材料科技有限公司侯军获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江奥首材料科技有限公司申请的专利一种Ag蚀刻液、其制备方法与用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116855252B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310771296.6，技术领域涉及：C09K13/10；该发明授权一种Ag蚀刻液、其制备方法与用途是由侯军;滕越;彭仁杰;吕航;姚建民设计研发完成，并于2023-06-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种Ag蚀刻液、其制备方法与用途在说明书摘要公布了：本发明提供一种Ag蚀刻液、其制备方法与用途。本发明Ag蚀刻液包括重量配比如下的各组分：无机酸40‑80份；有机酸10‑50份；缓蚀剂0.05‑1.5份；螯合剂0.1‑2份；缓冲剂1‑7.5份；超纯水30‑50份。本发明还公开了Ag蚀刻液的制备方法及其在蚀刻ITO‑Ag‑ITO复合层领域的用途。所述无机酸选自磷酸、硫酸、碳酸、硼酸、氢溴酸、碘酸、次碘酸、氢氟酸和硝酸中的一种或多种。所述无机酸优选为磷酸和硝酸。本发明Ag蚀刻液对ITO‑Ag‑ITO有稳定的刻蚀速率，且对绝缘层与光刻胶均无损伤，能在OLED像素电极制造过程中使用，Ag层蚀刻后无毛刺与内缩。
本发明授权一种Ag蚀刻液、其制备方法与用途在权利要求书中公布了：1.一种Ag蚀刻液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分： 无机酸40-80份； 有机酸10-50份； 缓蚀剂0.05-1.5份； 螯合剂0.1-2份； 缓冲剂1-7.5份； 超纯水30-50份； 所述无机酸包括磷酸； 所述缓冲剂为氨基乙酸钠、磷酸二氢钠和乙醇酸钠； 所述无机酸除磷酸外还包括：硫酸、碳酸、硼酸、氢溴酸、碘酸、次碘酸、氢氟酸和硝酸中的一种或多种； 所述有机酸选自乙酸、柠檬酸、酒石酸、草酸、乙醇酸、苯六甲酸、氮硫方酸、三氯乙酸和三硝基苯磺酸中的一种或多种； 所述缓蚀剂为2-氨基苯并噻唑和苯并三氮唑； 所述螯合剂选自乙二胺四乙酸、肼硝丁酰胺、二乙基三胺五乙酸、2,2,2-1,4,7-三氮杂环壬烷-1,4,7-三基三乙酸和1,4,7,10-四氮杂环十二烷-四乙酸中的一种或多种。
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