沈阳航空航天大学孟庆实获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳航空航天大学申请的专利剥离或剥离改性的氮化硼纳米片及其制法和增强聚脲复合材料的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116750731B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310713921.1，技术领域涉及：C01B21/064；该发明授权剥离或剥离改性的氮化硼纳米片及其制法和增强聚脲复合材料的应用是由孟庆实;苑志毅;刘建邦;王向明;张业伟;张汉茹;徐朝阳;于音;王朔;王英波;姬书得设计研发完成，并于2023-06-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本剥离或剥离改性的氮化硼纳米片及其制法和增强聚脲复合材料的应用在说明书摘要公布了：一种剥离或剥离改性的氮化硼纳米片及其制法和增强聚脲复合材料的应用，其中，剥离改性的氮化硼纳米片，厚度为2.31±0.14nm，表面氨基接枝率为3～5％。剥离的氮化硼纳米片B‑BN是通过利用机械化学能、无溶剂高效率剥离制得，剥离改性的氮化硼纳米片M‑BN是对剥离的氮化硼纳米片B‑BN采用间苯二甲胺MXDA进行球磨改性制得。剥离的氮化硼纳米片具有更大的比表面积，提高了聚脲基体中的分散性；剥离改性的氮化硼纳米片除了大的比表面积，表面还含有氨基，能和异氰酸酯组份以共价键链接，提高与聚脲体系的界面作用，增强了聚脲弹性体的机械性能、抗冲击性能以及电绝缘性。
本发明授权剥离或剥离改性的氮化硼纳米片及其制法和增强聚脲复合材料的应用在权利要求书中公布了：1.一种剥离改性的氮化硼纳米片，其特征在于，该剥离改性的氮化硼纳米片厚度为2.31±0.14nm，其表面含有氨基，表面氨基接枝率为3～5％； 所述的剥离改性的氮化硼纳米片采用以下制备方法制得： 步骤1：将计量好的氮化硼纳米片与极性溶剂放入高速搅拌机中，进行高速搅拌，得到氮化硼溶液；所述的极性溶剂为去离子水、无水乙醇中的一种或几种； 步骤2：将氮化硼溶液放入高速离心机中离心，取离心后的氮化硼纳米片烘干备用，得到剥离的氮化硼纳米片； 步骤3：剥离的氮化硼纳米片和间苯二甲胺MXDA，按照计量比放入球磨罐中，球磨后取出洗涤、干燥，得到剥离改性的氮化硼纳米片；其中，剥离的氮化硼纳米片与MXDA的质量比为1：1～1.5。
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