买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉武汉华宇一目检测装备有限公司申请的专利试件表面缺陷的磁光联合检测方法、系统和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116643021B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310524942.9，技术领域涉及：G01N33/2045；该发明授权试件表面缺陷的磁光联合检测方法、系统和装置是由康宜华;陈彦廷;刘伶书设计研发完成，并于2023-05-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本试件表面缺陷的磁光联合检测方法、系统和装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种试件表面缺陷的磁光联合检测方法、系统、装置、计算机设备及存储介质。该方法包括对试件表面的目标区域进行3D建模，生成试件的表面形貌数字模型；对试件的表面形貌数字模型的仿真区域进行漏磁场有限元计算，获取预设时间段内的背景漏磁信号，仿真区域与目标区域相对应，背景漏磁信号是目标区域的漏磁信号的仿真值；获取预设时间段内的检测漏磁信号，检测漏磁信号是目标区域的漏磁信号的测量值；从检测漏磁信号中去除背景漏磁信号，获取预设时间段内消噪后的检测信号；根据预设时间段内消噪后的检测信号，确定目标区域有无缺陷。采用本方法能够实现对表面形貌复杂的试件表面的缺陷检测。

本发明授权试件表面缺陷的磁光联合检测方法、系统和装置在权利要求书中公布了：1.一种试件表面缺陷的磁光联合检测方法，其特征在于，包括： 通过3D激光成像仪，按照预设扫描步距，对试件表面的目标区域进行扫描，获取试件表面的目标区域的点云数据； 根据所述点云数据，对试件表面的目标区域进行3D建模，生成试件的表面形貌数字模型； 对所述试件的表面形貌数字模型的仿真区域进行漏磁场有限元计算，获取预设时间段内的背景漏磁信号，所述仿真区域与所述目标区域相对应，所述背景漏磁信号是目标区域的漏磁信号的仿真值； 通过漏磁检测探头中的激励线圈，在所述预设时间段内对试件表面施加交流磁化场，形成真实漏磁场，所述真实漏磁场的磁场分布情况和仿真漏磁场的磁场分布情况相同，所述仿真漏磁场是对所述仿真区域进行漏磁场有限元计算时的漏磁场； 通过漏磁检测探头中的接收线圈，检测所述预设时间段内所述目标区域的漏磁信号，获取所述预设时间段内的检测漏磁信号，所述检测漏磁信号是所述目标区域的漏磁信号的测量值； 从所述检测漏磁信号中去除所述背景漏磁信号，获取预设时间段内消噪后的检测信号； 根据所述预设时间段内消噪后的检测信号，确定所述目标区域有无缺陷。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉华宇一目检测装备有限公司，其通讯地址为：430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区喻家湖路12号金地·华公馆10号楼2楼205；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。