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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116622042B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310682940.2，技术领域涉及：C08G16/00；该发明授权一种含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜及其制备方法是由焉晓明;刘杰;贺高红;高莉设计研发完成，并于2023-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于阴离子交换膜技术领域，公开了一种含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜及其制备方法，合成了具有良好碱稳定性和机械性能的哌啶型三单体聚合物，通过控制单体的投料比例来控制聚合物主链结构，再对聚合物与碘甲烷反应得到季铵化聚合物，并用季铵化聚合物进行铸膜。所制备的膜具有较好的尺寸稳定性和良好的离子传导率，具有较好的碱稳定性和机械强度，可应用于碱性燃料电池和碱性电解水中。

本发明授权一种含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜，其特征在于，该含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜的结构如下： ； 其中，Ar的结构： ； x=0.15~0.35； 含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜的制备方法，步骤如下： 1含氧芴聚芳基哌啶型三单体聚合物的合成：将氧芴溶于二氯甲烷中，溶解后加入N-甲基-4哌啶酮和芳基单体，在冰浴下逐滴加入三氟乙酸、三氟甲磺酸，30min后撤去冰浴，室温下反应3小时后得到黑色粘稠溶液，随后将溶液倒入溶剂A中沉淀，最后用去离子水洗涤至中性，干燥得到三单体聚合物； 所述的N-甲基-4哌啶酮在二氯甲烷中的摩尔浓度为1~1.3molL； 所述的N-甲基-4哌啶酮：氧芴：芳基单体的摩尔比为1:0~0.35:1~0.65； 所述的N-甲基-4哌啶酮与三氟甲磺酸的摩尔比为1：6~9； 所述的N-甲基-4哌啶酮与三氟乙酸的摩尔比为1：0.8~1； 所述的溶剂A为甲醇、乙醇、水； 2季铵化聚合物制备：三单体聚合物溶于溶剂B中，溶解后加碳酸钾，搅拌均匀后加入碘甲烷，在40℃下避光反应一段时间；将反应结束后的溶液离心，除去碳酸钾后倒入溶剂C中析出，最后用溶剂C洗涤、过滤、干燥，得到季铵化聚合物； 所述的三单体聚合物：碘甲烷：碳酸钾的摩尔比为1:2:1~1.5； 所述的溶剂B为N-甲基吡咯烷酮或二甲基亚砜； 所述的三单体聚合物在溶剂B的质量浓度为0.03~0.05gmL； 所述的析出剂C为丙酮、乙酸乙酯或乙醚； 所述的避光反应时间为36~48h； 3含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜的制备：将季铵化聚合物溶于溶剂D中，溶解后离心去除杂质得到铸膜液；再将铸膜液浇铸在玻璃板上，一定温度下干燥成膜；将膜浸泡于1molL氢氧化钾溶液中24~48h，在去离子水中浸泡至中性，即可得含氧芴聚芳基哌啶型阴离子交换膜； 所述的溶剂D为N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜或N,N二甲基甲酰胺； 所述的铸膜液质量浓度为0.015~0.025gmL； 所述的浇铸法成膜的烘干温度为60~80°C，时间为24小时。

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