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龙图腾网获悉西安电子科技大学申请的专利薄膜微带反射阵单元及规避折痕的微带反射阵布局方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116526129B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310278345.2，技术领域涉及：H01Q1/38；该发明授权薄膜微带反射阵单元及规避折痕的微带反射阵布局方法是由宋立伟;赵怡敏;张文静;张逸群;李申;胡乃岗;李萌;蔡建国设计研发完成，并于2023-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本薄膜微带反射阵单元及规避折痕的微带反射阵布局方法在说明书摘要公布了：本发明公开了薄膜微带反射阵单元，依次紧贴包括金属贴片层、聚酰亚胺薄膜层、空气层和金属地板支撑层；本发明以薄膜作为介质对微带反射阵天线单元进行设计，结构简单、便于折叠且质量轻，可以满足大口径星载天线折展的需求；考虑到构成薄膜反射阵列天线后，在折叠过程中存在折痕的情况，本发明还公开了规避折痕的微带反射阵布局方法，分析了正方形、三角形、圆形栅格下的布局情况，然后根据折痕位置计算得出不同布局下反射阵单元与折痕相交的单元个数，通过旋转或者去除单元的方式进行折痕的规避，通过调节天线单元的方式，首次提出了一种规避折痕影响的薄膜微带反射阵单元布局方案。

本发明授权薄膜微带反射阵单元及规避折痕的微带反射阵布局方法在权利要求书中公布了：1.规避折痕的微带反射阵布局方法，采用薄膜微带反射阵单元，其特征在于，具体按以下步骤实施： 步骤1，根据单元分析时所确定的基本周期尺寸，按一定周期确定单元栅格满阵布局时阵列单元之间的间距； 步骤2，根据步骤1确定的周期尺寸计算出该单元栅格下天线在所选口径内布置的单元数目； 步骤3，根据所选择的折痕形式，确定折痕位置，然后确定出与折痕相交的单元位置，对这些位置的单元进行分析，然后进行规避折痕处理； 规避折痕处理具体为：确定出与折痕相交的单元位置，对这些位置的单元进行分析，确定可以通过旋转避开折痕的单元个数，若不可以通过旋转避开折痕，则将该位置处单元去除，最终得到调节后可布置的单元个数； 所述薄膜微带反射阵单元，包括：依次紧贴的金属贴片层1、聚酰亚胺薄膜层2、空气层3和金属地板支撑层4； 所述金属贴片层1包括两个同心设置的正三角形环辐射贴片，包括外侧较大正三角形环101和内侧较小正三角形环102，所述两个同心设置的正三角形环辐射贴片的边长满足数学式L1=0.5×L，式中L1为内侧较小正三角形的边长，L为外侧较大正三角形边长，W1=0.1×L，W2=0.05×L，式中，W1为外侧较大正三角形环101的外边缘角的顶点以及与外边缘角对应的内边缘角的顶点之间的水平距离，W2为内侧较小正三角形环102的外边缘角的顶点以及与外边缘角对应的内边缘角的顶点之间的水平距离，所述聚酰亚胺薄膜层2的厚度为0.1mm，介电常数为2.5； 所述空气层3的厚度h为2mm。

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