买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉成都理工大学申请的专利一种表面偏析抗污染光催化膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116371207B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310400799.2，技术领域涉及：B01D67/00；该发明授权一种表面偏析抗污染光催化膜及其制备方法是由曾广勇;杨朝美;覃晓君;林清泉;王宏山;刘嘉欣;刘志鹏;金秋雨;程晓婕;蒲生彦设计研发完成，并于2023-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种表面偏析抗污染光催化膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种表面偏析抗污染光催化膜及其制备方法，通过LiF+HCl混合溶液刻蚀MAX相，以得到片层结构清晰的二维MXene材料；采用热聚合法制备g‑C33N44光催化材料；分别以PVDF为原料、PVP为亲水剂、DMAc为溶剂，将不同浓度的带正电的偏析剂MXene@PEI和带负电的PAA‑g‑C33N44分别引入铸膜液和凝固浴中，通过非溶剂致相转化法NIPS法制备MXene@PEIPAA‑g‑C33N44PVDF光催化抗污染膜。本发明制得的光催化抗污染膜材料，具有“抵挡污染物+降解污染”的双重抗污染机制，为开发兼具高亲水性和光催化能力的具有双重抗污染机制的超滤膜提供了参考价值。从膜材料本身结构的改善角度出发，以提高膜的处理效率和抗污染性，最终达到绿色、环保，降低工业废水处理成本的现实目的。

本发明授权一种表面偏析抗污染光催化膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种表面偏析抗污染光催化膜的制备方法，包括： 1MXene纳米片的制备：采用LiF+HCl混合溶液化学刻蚀MAX相制备MXene纳米片； 2g-C3N4的制备：采用热聚合法制备光催化材料g-C3N4； 3表面偏析光催化抗污染光催化膜的构筑： ①取PEI溶液与DMAc溶剂混合，超声搅拌10min，再加入MXene粉末，在25℃下超声搅拌直至溶液分散均匀，得第一混合溶液； ②向第一混合溶液中加入PVP，超声搅拌1h，再加入PVDF粉末，机械搅拌后自然冷却，再在室温下脱泡，得到脱泡铸膜液； ③称取400mg、800mg和1200mg的PAA粉末溶于800mL去离子水中，超声搅拌2h，再加入40mgg-C3N4继续超声搅拌至完全溶解，得到不同浓度的PAA-g-C3N4凝固浴； ④将脱泡铸膜液倒在平板玻璃上，刮出厚度200μm的膜，将膜在空气中预蒸发后，再水平浸于PAA-g-C3N4凝固浴中，待其从玻璃板上完全脱落，取出膜片并置于去离子水中浸泡48h； ⑤最后再次取出膜片并用去离子水清洗，干燥后即得一种表面偏析抗污染光催化膜。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人成都理工大学，其通讯地址为：610059 四川省成都市成华区二仙桥东三路1号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。