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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示基板、显示装置及指纹识别方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116034646B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180002262.X，技术领域涉及：H10K59/60；该发明授权显示基板、显示装置及指纹识别方法是由海晓泉;董学;陈小川;王雷;王迎姿设计研发完成，并于2021-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板、显示装置及指纹识别方法在说明书摘要公布了：本公开提供的显示基板、显示装置及指纹识别方法，包括衬底基板；多个发光器件，在衬底基板上呈阵列排布；多个光敏器件，位于发光器件所在层与衬底基板之间；各光敏器件在衬底基板上的正投影与相邻发光器件的间隙正投影相互交叠；黑矩阵，位于发光器件所在层背离衬底基板的一侧；黑矩阵在衬底基板上的正投影与相邻发光器件的间隙正投影相互交叠，黑矩阵具有多个第一开口，第一开口在衬底基板上的正投影与光敏器件的正投影相互交叠；透过第一开口照射至光敏器件的光总量满足指纹识别的信噪比且小于光敏器件的满阱容量。

本发明授权显示基板、显示装置及指纹识别方法在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其中，包括： 衬底基板； 多个发光器件，在所述衬底基板上呈阵列排布，其中，所述发光器件包括蓝光器件、绿光器件和红光器件； 多个光敏器件，位于所述发光器件所在层与所述衬底基板之间；各所述光敏器件在所述衬底基板上的正投影与相邻所述发光器件的间隙正投影相互交叠； 黑矩阵，位于所述发光器件所在层背离所述衬底基板的一侧；所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影与相邻所述发光器件的间隙正投影相互交叠，所述黑矩阵具有多个第一开口，所述第一开口在所述衬底基板上的正投影与所述光敏器件的正投影相互交叠；透过所述第一开口照射至所述光敏器件的光总量满足指纹识别的信噪比且小于所述光敏器件的满阱容量； 其中，同行中每相邻三个所述光敏器件分别为第一光敏器件、第二光敏器件和第三光敏器件，相邻两行中所述第一光敏器件所在列位于所述第二光敏器件所在列与所述第二光敏器件所在列之间； 在同行相邻的所述第一光敏器件、所述第二光敏器件和所述第三光敏器件中： 所述第一光敏器件的底电极独立于所述第二光敏器件的底电极、及所述第三光敏器件的底电极，所述第二光敏器件的底电极与所述第三光敏器件的底电极电连接； 所述光敏器件所含光电转换层未被所述发光器件的阳极遮挡的面积为有效感光面积，所述第一光敏器件的有效感光面积等于所述第二光敏器件的有效感光面积与所述第三光敏器件的有效感光面积之和； 其中，在列方向上，在任意两个发光器件之间设置光敏器件以及与所述光敏器件电连接的读取晶体管；或， 在任意两个发光器件之间设置光敏器件，以及在所述第一光敏器件与所述红光器件之间设置与所述第一光敏器件电连接的读取晶体管，以及在所述第二光敏器件与所述蓝光器件之间设置与所述第二光敏器件及所述第三光敏器件共用底电极电连接的读取晶体管。

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