三菱瓦斯化学株式会社山本良亮获国家专利权
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龙图腾网获悉三菱瓦斯化学株式会社申请的专利防反射基材获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115702368B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180042500.X，技术领域涉及：G02B1/111；该发明授权防反射基材是由山本良亮;若山彰太设计研发完成，并于2021-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本防反射基材在说明书摘要公布了：根据本发明能够提供一种防反射基材，其为将下述A、B、C和D层依次叠层而成的防反射基材，其中，A基材层、B硬涂层、C光吸收层、和D低折射率层，其为将含有活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅和氟系化合物的低折射率树脂组合物通过活化能量射线固化而成的层，上述C光吸收层的膜厚为1～20nm。
本发明授权防反射基材在权利要求书中公布了：1.一种防反射基材，其特征在于： 其为将下述A、B、C和D层依次叠层而成的防反射基材， A基材层、 B硬涂层、 C光吸收层、和 D低折射率层，其为将含有活化能量射线固化型树脂、中空二氧化硅和氟系化合物的低折射率树脂组合物通过活化能量射线固化而成的层， 所述C光吸收层的膜厚为2～15nm， 所述C光吸收层通过选自CVD和PVD的Dry制膜而形成， 所述D低折射率层中的活化能量射线固化型树脂含有聚氨酯甲基丙烯酸酯成分， 所述D低折射率层中的氟系化合物含有全氟聚醚键。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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