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龙图腾网获悉武汉颐光科技有限公司申请的专利一种光学测量仪器的系统参数优化配置方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115468744B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210987117.8，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权一种光学测量仪器的系统参数优化配置方法及装置是由石雅婷;刘亚鼎;李伟奇;郭春付;张传维;薛小汝;何勇设计研发完成，并于2022-08-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光学测量仪器的系统参数优化配置方法及装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种光学测量仪器的系统参数优化配置方法及装置，方法包括：获取标准样件在光学测量仪器中特定波长的光强信息；基于光强信息和标准样件在特定波长的反射率和穆勒矩阵，迭代拟合得到等效光源强度；根据等效光源强度和光学测量仪器在特定波长的系统参数，基于仪器系统模型计算特定波长的出射光强；其中，不断调整仪器系统模型中的系统参数，使得计算的出射光强达到目标函数值，获取特定波长的最优系统参数。测量光强信号的稳定性与光强强度正相关，因此在特定的光源波段分布下，为了平衡光强信号稳定性，针对光源以及目标波段相关的目标函数，配置系统参数，提高光强强度，改善测量光强信噪比，以提高光学测量仪器的测量精度。

本发明授权一种光学测量仪器的系统参数优化配置方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种光学测量仪器的系统参数优化配置方法，其特征在于，包括： 获取标准样件在光学测量仪器中特定波长的光强信息； 基于所述光强信息和标准样件在特定波长的反射率和穆勒矩阵，迭代拟合得到等效光源强度； 根据所述等效光源强度和光学测量仪器在特定波长的系统参数，基于仪器系统模型计算特定波长的出射光强； 其中，不断调整所述仪器系统模型中的系统参数，使得计算的出射光强达到目标函数值，获取特定波长的最优系统参数； 所述基于所述光强信息和标准样件在特定波长的反射率和穆勒矩阵，迭代拟合得到等效光源强度，包括： 基于所述特定波长的光强信息，获得特定波长的系统参数、标准样件厚度和光源入射角； 根据所述标准样件厚度、光源入射角以及标准样件在特定波长的复折射率，计算标准样件在特定波长的穆勒矩阵和反射率； 基于所述特定波长的光强信息、特定波长的系统参数和标准样件在特定波长的穆勒矩阵和反射率，拟合迭代出等效光源强度。

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