HOYA株式会社田边胜获国家专利权
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龙图腾网获悉HOYA株式会社申请的专利光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115145110B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210312054.6，技术领域涉及：G03F1/32；该发明授权光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法是由田边胜;浅川敬司;安森顺一设计研发完成，并于2022-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供能够缩短对图案形成用薄膜进行微细图案图案形成用薄膜图案的湿法蚀刻时的蚀刻时间、具有高耐光性及耐化学药品性、并且能够形成具有接近垂直的边缘的截面形状及良好的LER的微细图案的显示装置制造用光掩模坯料。所述显示装置制造用光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，所述图案形成用薄膜由含有钛Ti、硅Si及氮N的材料形成，所述图案形成用薄膜具有柱状结构，所述图案形成用薄膜中所含的氧的含有率为7原子％以下。
本发明授权光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种显示装置制造用光掩模坯料，其在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中， 所述图案形成用薄膜由含有钛Ti、硅Si及氮N的材料形成， 所述图案形成用薄膜具有柱状结构， 所述图案形成用薄膜中所含的氧的含有率为7原子%以下， 在所述图案形成用薄膜的空间频谱分布中，存在相对于与空间频率的原点对应的最大信号强度具有0.8%以上的信号强度的空间频谱， 所述空间频谱分布如下地得到：对于以80000倍的倍率对所述光掩模坯料的截面进行扫描电子显微镜观察而得到的图像，对包含所述图案形成用薄膜的厚度方向的中心部的区域提取出纵64像素×横256像素的图像数据，对所述图像数据进行傅里叶变换， 在所述图案形成用薄膜中，将最大空间频率设为100%时，所述具有0.8%以上的信号强度的信号位于与空间频率的原点相距6.7%以上的空间频率。
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