武汉华星光电半导体显示技术有限公司胡廷栋获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利偏光结构、柔性面板及柔性面板的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114864842B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210378204.3，技术领域涉及：H10K59/80；该发明授权偏光结构、柔性面板及柔性面板的制作方法是由胡廷栋设计研发完成，并于2022-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本偏光结构、柔性面板及柔性面板的制作方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种偏光结构、柔性面板及柔性面板的制作方法，柔性面板的制作方法包括：将偏光结构沿第二离型膜至第一离型膜的方向的切割线进行模切，以将第二离型膜、偏光片及保护膜分成待贴合块及填充块，待贴合块包括第一离型区域、贴合区域及第一保护区域，填充块包括第二离型区域、填充区域及第二保护区域；将待贴合块中第二离型膜的第一离型区域去除后，将偏光片的贴合区域贴合于OLED层的一侧，并将填充块填入薄膜基板的pad区域；将OLED层的另一侧贴合薄膜基板的非pad区域，以及将BP层贴合薄膜基板后，将第一离型膜及附着在第一离型膜上的填充块去除，能够有效避免两者之间由于贴合力不均匀而产生的贴合气泡，方便后续的加工。
本发明授权偏光结构、柔性面板及柔性面板的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种柔性面板的制作方法，其特征在于，所述柔性面板包括依次层叠设置的偏光结构、OLED层、薄膜基板及BP层，所述薄膜基板具有未贴合OLED层的pad区域；所述方法包括： 将所述偏光结构沿第二离型膜至第一离型膜的方向的切割线进行模切，以将所述第二离型膜、偏光片及保护膜分成待贴合块及填充块，所述待贴合块包括第一离型区域、贴合区域及第一保护区域，所述填充块包括第二离型区域、填充区域及第二保护区域； 将所述待贴合块中第二离型膜的第一离型区域去除后，将所述偏光片的贴合区域贴合于OLED层的一侧，并将填充块填入薄膜基板的pad区域； 将OLED层的另一侧贴合薄膜基板的非pad区域，以及将BP层贴合薄膜基板后，将第一离型膜及附着在第一离型膜上的填充块去除。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉华星光电半导体显示技术有限公司，其通讯地址为：430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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