大日本印刷株式会社中村阳子获国家专利权
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龙图腾网获悉大日本印刷株式会社申请的专利有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695774B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111613619.6，技术领域涉及：H10K50/11；该发明授权有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法是由中村阳子;大八木康之;谷口幸夫;堀口龙二;井上功设计研发完成，并于2021-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的第2电极；和第2显示区域，其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。可以是，在第2显示区域中，有机层在第1方向上排列，且在与第1方向交叉的第2方向上排列。在第2显示区域中，第2电极可以包含在第1方向上排列的电极线。电极线可以包含在第2方向上排列且与有机层重叠的电极段。在第2方向上相邻的2个电极段可以互相连接。电极段可以包含：具有第1形状的第1电极段；和具有与第1形状不同的第2形状的第2电极段。
本发明授权有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种有机器件，其中， 所述有机器件具备： 基板； 第1电极，其位于所述基板上； 有机层，其位于所述第1电极上；以及 第2电极，其位于所述有机层上， 在沿着所述基板的法线方向观察的情况下，所述有机器件具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的所述第2电极；和第2显示区域，其包含具有比所述第1占有率小的第2占有率的所述第2电极， 在所述第2显示区域中， 所述有机层在第1方向和与所述第1方向交叉的第2方向上排列， 所述第2电极包含在所述第1方向上排列的电极线， 在所述第1方向上相邻的2个所述电极线彼此不连接， 所述电极线包含在所述第2方向上排列且与所述有机层重叠的电极段， 在所述第2方向上相邻的2个所述电极段互相连接， 所述电极段包含：具有第1形状的第1电极段；和具有与所述第1形状不同的第2形状的第2电极段。
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